线状材料的镀铜方法及镀铜线

    公开(公告)号:CN101328582A

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200810081807.7

    申请日:2008-04-02

    Abstract: 本发明提供一种可以形成密合性优异的均匀镀膜的线状材料的镀铜方法,其为在移动的线状材料3上喷射置换镀液的镀覆方法,使用每1L含有5g以上的CuSO4·5H2O、5g以上且400g以下的H2SO4、5g以上且400g以下的FeSO4·7H2O、5mg以上且10g以下的至少1种非离子型表面活性剂的置换镀液。

    高耐腐蚀性钢材
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1966754A

    公开(公告)日:2007-05-23

    申请号:CN200610059680.X

    申请日:2006-03-17

    Abstract: 本发明提出一种高耐腐蚀性钢材,其不会引起由于耐腐蚀性提高元素的过剩的添加所致的机械的特性和焊接性的降低,能够具有优异的耐腐蚀性。其特征在于,(1)含有Zn:0.01~3.0质量%;Cu:0.05~3.0质量%;Ni:0.05~6.0质量%,还含有Ca:0.0005~0.0050质量%、Mg:0.0005~0.010质量%、REM:0.0005~0.010质量%中任选一种或两种以上,(2)在从钢材最表面至深度500μm的区域中,Cu量+Ni量为钢材的Cu量+Ni量的1.2倍以上,并且,具有作为1.0质量%以上的Cu+Ni稠化层,该稠化层的厚度为1μm以上,(3)在钢板的表层部的特定区域中的平均铁素体结晶粒径为5μm以下等。

    Al或Al合金
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103540987B

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201310424558.8

    申请日:2008-04-18

    CPC classification number: C25D11/04

    Abstract: 本发明涉及一种具有阳极氧化膜的Al或Al合金,所述阳极氧化膜在其厚度方向具有硬度不同的部位,其中的硬度最大部位的硬度与硬度最小部位的硬度的差以维氏硬度计为5以上。优选所述Al或Al合金的硬度最小部位的硬度以维氏硬度计为300以上。另外,优选所述Al或Al合金的阳极氧化膜的Fe含量500ppm以下。本发明的Al或Al合金即使为高硬度,仍具有耐裂纹性优异的阳极氧化膜。

    耐蚀性优异的船舶用钢材

    公开(公告)号:CN101525729B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN200910004106.8

    申请日:2009-02-12

    Abstract: 提供一种即使不对其内面实施涂敷和电防腐等其他的防腐手段,在能够实用的程度上耐蚀性也优异,特别是作为储罐油舱用的原材料有用的船舶用钢材。本发明的船舶用钢材,分别含有C:0.01~0.20%(质量%的意思、下同)、Si:0.1~0.5%、Mn:0.6~1.8%、P:0.0005~0.02%、S:0.0005~0.01%、Al:0.01~0.10%、Ni:0.1~0.5%、Cr:0.01~0.3%、Ti:0.001~0.05%、Ca:0.0003~0.004%和N:0.0020~0.008%,余量由铁和不可避免的杂质构成。

    半导体液晶制造装置用表面处理构件的制造方法

    公开(公告)号:CN101805916A

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200910259037.5

    申请日:2009-12-09

    CPC classification number: C25D11/24 H01L29/4908

    Abstract: 本发明提供一种能够利用简便的方法形成硬度高于利用以往方法形成的阳极氧化被膜而且没有发生裂缝的方面的问题、高硬度且低裂缝的平衡出色的阳极氧化被膜的半导体液晶制造装置用表面处理构件的制造方法。该制造方法是在将铝合金或纯铝作为基材的构件的表面形成阳极氧化被膜,然后浸渍于纯水中而对所述阳极氧化被膜进行水合处理的半导体液晶制造装置用表面处理构件的制造方法,其中,在满足处理温度:80℃~100℃、处理时间(分钟)≥-1.5×处理温度(℃)+270的条件下实施所述水合处理。

    燃料电池间隔件用耐腐蚀被膜以及燃料电池间隔件

    公开(公告)号:CN101800323A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200910225908.1

    申请日:2009-11-23

    CPC classification number: H01M8/0206 H01M8/021 H01M8/0228 H01M2008/1095

    Abstract: 本发明提供:将燃料电池间隔件的表面覆盖从而赋予长期维持低接触电阻的效果、且成本低、生产性优异的耐腐蚀被膜,以及使用该被膜的间隔件。本发明涉及的间隔件(10),在含有Ti、Al、SUS等金属材料的基材(1)的表面上设置有将耐腐蚀层(21)和含有选自Au、Pt中的1种以上贵金属元素的导电层(22)层叠形成的耐腐蚀被膜(2)。耐腐蚀层(21)含有选自Au、Pt中的1种以上贵金属元素和选自Nb、Ta、Zr、Hf中的1种以上非贵金属元素的合金而形成,通过使上述非贵金属元素的含量为50~90原子%而形成非晶质合金,采用通常的溅射法等形成薄膜时也难于形成针孔,基材(1)不会露出。通过在底层设置这种耐腐蚀层(21),可将间隔件(10)表面的导电层形成薄膜从而抑制成本。

    耐蚀性优异的船舶用钢材

    公开(公告)号:CN101525729A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200910004106.8

    申请日:2009-02-12

    Abstract: 提供一种即使不对其内面实施涂敷和电防腐等其他的防腐手段,在能够实用的程度上耐蚀性也优异,特别是作为储罐油舱用的原材料有用的船舶用钢材。本发明的船舶用钢材,分别含有C:0.01~0.20%(质量%的意思、下同)、Si:0.1~0.5%、Mn:0.6~1.8%、P:0.0005~0.02%、S:0.0005~0.01%、Al:0.01~0.10%、Ni:0.1~0.5%、Cr:0.01~0.3%、Ti:0.001~0.05%、Ca:0.0003~0.004%和N:0.0020~0.008%,余量由铁和不可避免的杂质构成。

    半导体制造装置用表面处理部件及其制造方法

    公开(公告)号:CN101521145A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200910006390.2

    申请日:2009-02-16

    CPC classification number: C25D11/246

    Abstract: 本发明提供能抑制半导体制造装置在使用中电特性经时变化的半导体制造装置用表面处理部件及其制造方法。半导体制造装置用表面处理部件(1)具备:由铝或铝合金形成的基材(2);和形成于所述基材(2)的表面的、实施了水合处理的阳极氧化被膜(3);和形成于所述阳极氧化被膜(3)的表面的氟高浓度化层(4),其特征在于,所述氟高浓度化层(4)的氟浓度为1质量%以上。一种半导体制造装置用表面处理部件(1)的制造方法的特征在于包括下述工序:在由铝或铝合金形成的基材(2)的表面形成阳极氧化被膜(3)的阳极氧化被膜形成工序;和对所述阳极氧化被膜(3)实施水合处理的水合处理工序;和在阳极氧化被膜(3)的表面形成氟浓度高浓度化为1质量%以上的氟高浓度化层(4)的氟高浓度化层形成工序。

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