-
公开(公告)号：CN1325129A
公开(公告)日：2001-12-05
申请号：CN01119694.7
申请日：2001-03-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/00
CPC classification number: B05C5/005
Abstract: 一种成膜装置,备有:药液喷出喷嘴,对被处理衬底连续地喷出药液;气体喷出部,配置在该药液喷嘴下方,对从该喷嘴喷出的药液吹气,通过该气体的压力使药液的轨迹改变;药液回收部,相对于喷出的药液与所述气体喷出部相隔配置,回收由该喷出部使轨迹改变的药液;和移动部,使所述液体喷出喷嘴和所述被处理衬底相对移动。所述气体喷出部备有:激光振荡器,使激光振荡;和气体发生膜,由所述振荡器照射的激光加热气化产生所述气体。
Search Results
21
records
(took 0.015 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
