公开(公告)号：CN110475604B

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN201880013010.5

申请日：2018-03-15

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 萩尾健史 ,  野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉 ,  三浦绫 ,  吉村辽太郎

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/02 ,  B01D69/12 ,  C01B39/54

Abstract: 对ERI膜(20)的膜表面照射X射线得到的X射线衍射图案中，(002)晶面的峰强度为(100)晶面的峰强度的0.5倍以上。

公开(公告)号：CN110430934B

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN201880012739.0

申请日：2018-02-26

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 清水克哉 ,  市川真纪子 ,  谷岛健二 ,  萩尾健史

IPC: B01D65/10 ,  B01D63/06 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02

Abstract: 分离膜组件(10)的检查方法具备在沸石膜(12)的一次侧封入检查用气体的封入工序。检查用气体的动态分子直径大于沸石膜(12)的细孔径的1.07倍。检查用气体具有如下特性，即，将分离膜结构体(1)在25℃、0.1MPaG的检查用气体中静置了60分钟的情况下，沸石膜(12)的CO2气体透过速度降低率低于10％。

公开(公告)号：CN110446544B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201880014747.9

申请日：2018-03-15

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 萩尾健史 ,  野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/00 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B39/04 ,  C01B39/54

Abstract: 在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(004)晶面的峰强度为(110)晶面的峰强度的3倍以上。

公开(公告)号：CN112752603A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201980054252.3

申请日：2019-09-17

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 野田宪一 ,  谷岛健二 ,  清水克哉

IPC: B01D53/22 ,  B01D71/02 ,  C01B32/50

Abstract: 气体分离装置(2)具备：分离膜复合体1，其中，在多孔质的支撑体(11)上形成了具有平均细孔径为1nm以下的细孔的分离膜(12)；以及气体供给部(26)，其将包含CO2及其他气体的混合气体从分离膜(12)侧向分离膜复合体(1)供给。并且，在支撑体(11)中的供已透过分离膜(12)的气体排出的透过侧表面(113)的至少一部分处的温度比向分离膜复合体(1)供给之前的混合气体的温度低10℃以上的状态下，使混合气体中的CO2透过分离膜(12)及支撑体(11)，由此将CO2从混合气体中分离出来。从而，能够提高分离膜(12)中的CO2的选择性能。

公开(公告)号：CN110753575A

公开(公告)日：2020-02-04

申请号：CN201880037277.8

申请日：2018-06-06

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉 ,  萩尾健史

IPC: B01D61/36 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  C01B39/30 ,  C01B39/54

Abstract: 脱水方法用于：使用ERI结构的沸石膜，从含有水的混合物中选择性地分离出水，其包括：向ERI膜(45)的供给侧空间(4S)供给混合物(11)的工序、及使ERI膜(45)的供给侧空间(4S)和透过侧空间(4T)产生压力差的工序。

公开(公告)号：CN110709154A

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201880037258.5

申请日：2018-06-06

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉 ,  萩尾健史

IPC: B01D71/02 ,  B01D61/36 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B39/04 ,  C01B39/54

Abstract: 脱水方法用于：从含有水的混合物中选择性地分离出水，其包括：向AFX膜(45)的供给侧空间(4S)供给混合物(11)的工序、及使AFX膜(45)的供给侧空间(4S)和透过侧空间(4T)产生压力差的工序。