制备凸版的方法和激光雕刻用印版原版

    公开(公告)号:CN101692150A

    公开(公告)日:2010-04-07

    申请号:CN200910009620.0

    申请日:2009-01-23

    CPC classification number: B41C1/05

    Abstract: 本发明提供一种制备凸版的方法,该方法包括至少雕刻在激光雕刻用凸版原版的凸版形成层内并将要使用发射波长为700nm~1300nm激光束的光纤耦合的半导体激光器进行扫描曝光的区域,该凸版原版至少具有设置在支持体上的凸版形成层,该凸版形成层至少含有粘结剂聚合物和光热转换剂。本发明还提供一种可以用在制备凸版的方法中的激光雕刻用凸版原版。

    制备凸版的方法和激光雕刻用印版原版

    公开(公告)号:CN101692150B

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN200910009620.0

    申请日:2009-01-23

    CPC classification number: B41C1/05

    Abstract: 本发明提供一种制备凸版的方法,该方法包括至少雕刻在激光雕刻用凸版原版的凸版形成层内并将要使用发射波长为700nm~1300nm激光束的光纤耦合的半导体激光器进行扫描曝光的区域,该凸版原版至少具有设置在支持体上的凸版形成层,该凸版形成层至少含有粘结剂聚合物和光热转换剂。本发明还提供一种可以用在制备凸版的方法中的激光雕刻用凸版原版。

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