一种基于截止环的高压大功率IGBT芯片及其设计方法

    公开(公告)号:CN103022114B

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201210432069.2

    申请日:2012-11-02

    Abstract: 本发明涉及一种IGBT芯片及其设计方法,具体涉及一种基于截止环的高压大功率IGBT芯片及其设计方法。截止环分布在终端基本单元及划片槽区域之间,用于与多晶场板或金属场板形成等电位,切断IGBT芯片表面漏电沟道,减少IGBT表面漏电;所述截止环应用在电网高压大功率的IGBT芯片中。本发明电网应用大功率IGBT截止环设计方法,将传统快恢复二极管的终端截止环设计应用于高压大功率IGBT芯片设计,工艺简单,适用不同终端结构IGBT芯片的设计,可行性强。

    风冷控制装置及其工作方法

    公开(公告)号:CN102840160B

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201210369735.2

    申请日:2012-09-28

    CPC classification number: Y02E40/12

    Abstract: 本发明涉及一种风冷控制装置,包括:温度检测传感器、若干风扇、与所述温度检测传感器相连的适于根据外界温度高低控制相应数量的风扇工作的PLC模块。本发明利用PLC模块代替传统的继电器电路,避免了繁琐的接线以及继电器故障率高的缺陷;根据温度进行风扇数量的控制,在温度较低的冬天可以不启动风扇或者少量的风扇,温度较高的夏天就需要启动全部的风扇散热,节约了大量的电能,也延长了电机的寿命。

    一种具有终端保护结构的IGBT芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN103035694A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210513798.0

    申请日:2012-12-04

    Abstract: 本发明涉及电力电子领域的功率器件及其制造方法,具体涉及一种具有终端保护结构的IGBT芯片及其制造方法,终端保护结构包括P型连续场限环结构和多级场板结构;将所述P型连续场限环结构与多级场板结构通过接触孔电极互连结构和金属电极互连结构进行等电位连接。制造方法包括下述步骤:(一)制作IGBT芯片P型连续场限环结构;(二)制作IGBT芯片场氧化膜结构;(三)制作IGBT芯片栅极结构和多级场板部分结构;(四)制作IGBT芯片有源区结构和P型连续场限环的延伸结构;(五)制作IGBT芯片电极互连结构;(六)制作IGBT芯片钝化保护结构;(七)制作IGBT芯片背面结构。本发明在能够保证600V至6500V的IGBT器件耐压性能的同时,还缩小终端保护区域的面积,降低成本。

    一种基于截止环的高压大功率IGBT芯片及其设计方法

    公开(公告)号:CN103022114A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210432069.2

    申请日:2012-11-02

    Abstract: 本发明涉及一种IGBT芯片及其设计方法,具体涉及一种基于截止环的高压大功率IGBT芯片及其设计方法。截止环分布在终端基本单元及划片槽区域之间,用于与多晶场板或金属场板形成等电位,切断IGBT芯片表面漏电沟道,减少IGBT表面漏电;所述截止环应用在电网高压大功率的IGBT芯片中。本发明电网应用大功率IGBT截止环设计方法,将传统快恢复二极管的终端截止环设计应用于高压大功率IGBT芯片设计,工艺简单,适用不同终端结构IGBT芯片的设计,可行性强。

    风冷控制装置及其工作方法

    公开(公告)号:CN102840160A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201210369735.2

    申请日:2012-09-28

    CPC classification number: Y02E40/12

    Abstract: 本发明涉及一种风冷控制装置,包括:温度检测传感器、若干风扇、与所述温度检测传感器相连的适于根据外界温度高低控制相应数量的风扇工作的PLC模块。本发明利用PLC模块代替传统的继电器电路,避免了繁琐的接线以及继电器故障率高的缺陷;根据温度进行风扇数量的控制,在温度较低的冬天可以不启动风扇或者少量的风扇,温度较高的夏天就需要启动全部的风扇散热,节约了大量的电能,也延长了电机的寿命。

    一种压接式IGBT/FRD芯片的正面电极加工方法

    公开(公告)号:CN107644810B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN201610574275.5

    申请日:2016-07-20

    Abstract: 本发明提供了一种压接式IGBT/FRD芯片的正面电极加工方法,包括在第一金属层上方采用化学气相沉积方法形成第一薄膜层并对第一薄膜层刻蚀形成第一窗口;对第一窗口处暴露出的第一金属层进行反溅刻蚀;将第二金属层采用溅射方法生长在第一金属层和第一薄膜层形成的组合结构表面,并对第二金属层进行刻蚀;在第一薄膜层和第二金属层形成的组合结构的表面涂覆第二薄膜层,对第二薄膜层刻蚀形成用于焊接的第二窗口。与现有技术相比,本发明提供的一种压接式IGBT/FRD芯片的正面电极加工方法,不需要对现有设备进行改进、操作简单。

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