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公开(公告)号：CN101550219B
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN200910132525.X
申请日：2009-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F236/04 , C08F8/42 , C08L47/00 , C08K3/36 , C08J3/24
CPC classification number: C08L19/006 , C08C19/44 , C08F236/14 , C08F2/001
Abstract: 本发明提供共轭二烯系聚合物及其制造方法、和共轭二烯系聚合物组合物以及硫化物。所述共轭二烯系聚合物的特征在于，具有基于共轭二烯的结构单元和下式(I)表示的结构单元，在基于共轭二烯的结构单元和基于共轭二烯的结构单元之间具有式(I)表示的结构单元，式(I)表示的结构单元的含量相对于1根聚合物链为1单元或2单元。所述共轭二烯系聚合物组合物由配合所述共轭二烯系聚合物和填充剂而成。【化1】式(I)中，X1、X2以及X3各自独立，表示下式(II)表示的基团、羟基、烃基或取代烃基X1、X2以及X3的至少一个为下式(II)表示的基团或羟基。【化2】(式(II)中，R1以及R2各自独立，表示碳原子数为1～6的烃基、碳原子数为1～6的取代烃基、甲硅烷基团或取代甲硅烷基，R1以及R2可以键合并与N原子一起形成环结构。)
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公开(公告)号：CN102617796A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210019528.4
申请日：2012-01-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F236/10 , C08F230/08 , C08F4/48 , C08L9/06
CPC classification number: C08C19/44 , C08F4/48 , C08F236/04 , C08F236/10 , C08L15/00
Abstract: 本发明提供一种用于共轭二烯系聚合物的制备方法，共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物组合物。所述方法包括：将作为聚合引发剂组分的下列化合物(I)和(II)依次以化合物(I)和化合物(II)的顺序加入到含有至少一种单体组分并且使用烃作为溶剂的溶液中，以及聚合包含共轭二烯化合物和含硅的乙烯系化合物的单体组分：(I)有机碱金属化合物；(II)由下式(1)表示的化合物，其中，R11表示含3至20个碳原子并且任选地具有选自由硅原子、氮原子和氧原子组成的原子组中的至少一种原子作为杂原子的亚烃基。
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公开(公告)号：CN101659729A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910166660.6
申请日：2009-08-26
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 大岛真弓
IPC: C08F236/04 , C08F236/10 , C08F230/08 , C08C19/28 , C08L15/00
CPC classification number: C08F2/06 , C08C19/42 , C08C19/44 , C08F4/08 , C08F212/08 , C08F230/08 , C08F236/10 , C08F236/14 , C08L15/00 , C08L19/006 , C08L43/04
Abstract: 本发明涉及一种共轭二烯系聚合物，其是具有基于共轭二烯的结构单元和右式(I)所表示的结构单元的共轭二烯系聚合物，其特征在于，聚合物的至少一端通过上式(II)所表示的化合物进行了改性[式中，X 1 、X 2 和X 3 分别独立地表示上式(Ia)所表示的基团、羟基、烃基或取代烃基，X 1 、X 2 和X 3 中的至少一个为上式(Ia)所表示的基团或羟基。式中，R 1 和R 2 分别独立地表示碳原子数为1～6的烃基、碳原子数为1～6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R 1 和R 2 也可以成键与氮原子共同形成环结构。式中，n表示1～10的整数，R 3 表示氢原子、碳原子数为1～6的烃基或碳原子数为1～6的取代烃基，A 1 表示氧原子或-NR 4 -基(R 4 表示氢原子或碳原子数为1～10的烃基。)，A 2 表示具有氮原子和/或氧原子的官能团]。
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公开(公告)号：CN101659728A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910166656.X
申请日：2009-08-26
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 大岛真弓
IPC: C08F236/04 , C08F236/10 , C08F230/08 , C08C19/25 , C08L15/00
CPC classification number: C08L19/006 , C08C19/44 , C08L15/00
Abstract: 本发明提供一种共轭二烯系聚合物，其具有基于共轭二烯的结构单元和右式(I)所示的结构单元，其是聚合物的至少一端被右式(II)所示的化合物改性而成的[式中，X1、X2及X3分别独立地表示右式(Ia)所示的基团、羟基、烃基或取代烃基，X1、X2及X3的至少1个为下式(Ia)所示的基团或羟基。式中，R1及R2分别独立地表示碳原子数为1～6的烃基、碳原子数为1～6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R1及R2可以键合并与氮原子一起形成环结构。[式中，n表示1～10的整数，R3、R4及R5分别独立地表示碳原子数为1～4的烃基或碳原子数为1～4的烃氧基，R3、R4及R5的至少1个为烃氧基，A表示具有氮原子的官能团]。
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公开(公告)号：CN101550206A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910132521.1
申请日：2009-03-31
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F290/06 , C08C19/44 , C08F236/14 , C08F279/02 , C08F290/068 , C08F293/00 , C08K3/013 , C08F2/001 , C08L19/006
Abstract: 本发明提供共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物以及共轭二烯系聚合物的制造方法。所述共轭二烯系聚合物具有基于共轭二烯的结构单元，聚合物链的两末端具有上式(I)表示的基团(R1表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基、碳原子数为1～20的取代烃基，X1、X2以及X3表示下式(II)表示的基团、羟基、烃基或取代烃基，X1、X2以及X3的至少一个为下式(II)表示的基团或羟基。)(R2以及R3表示碳原子数为1～6的烃基、碳原子数为1～6的取代烃基等，R2以及R3可键合形成环结构)。所述共轭二烯系聚合物组合物由配合所述共轭二烯系聚合物和填充剂而成。本发明还提供所述共轭二烯系聚合物组合物的制造方法、硫化物、以及硫化物的制造方法。
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公开(公告)号：CN101511884A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200680055843.5
申请日：2006-09-15
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 大岛真弓
Abstract: 本发明提供共轭二烯类聚合物、共轭二烯类聚合物的制造方法、共轭二烯类聚合物组合物以及共轭二烯类聚合物组合物的制造方法。共轭二烯类聚合物，具有基于共轭二烯的单体单元与式(I)表示的基团，其中，将通过凝胶渗透色谱法测定而得到的分子量分布曲线的总面积设为100％时，最低分子量侧的分子量色谱峰的峰面积为50％以上，下式(I)中，R1和R2分别独立地表示烃基、烃氧基或者羟基，m表示0～10的整数，A1表示不具有活性氢的极性官能团。
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公开(公告)号：CN101328231A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200810128675.9
申请日：2008-06-23
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 大岛真弓
Abstract: 本发明涉及共轭二烯系聚合物及其制造方法和该聚合物组合物。共轭二烯系聚合物为具有基于共轭二烯的单体单元和上述式(I)表示的基团的共轭二烯系聚合物，其特征在于，通过凝胶渗透色谱测定得到的分子量分布曲线中至少存在下述峰H、M和L，以分子量分布曲线的总面积为100％，峰H的总峰面积为3～30％，峰M的总峰面积为5～45％，峰L的总峰面积为40～80％，式(I)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～4的烃基、碳原子数1～4的烃氧基、羟基或含有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链，m表示0～10的整数，A1表示不具有活泼氢的极性官能团。
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公开(公告)号：CN101333270B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200810144654.6
申请日：2008-06-27
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以得到回弹性高的聚合物组合物的改性二烯类聚合物的制造方法、根据该制造方法制造成的改性二烯类聚合物及配合了该改性二烯类聚合物的聚合物组合物。一种具有以下工序1及工序2的共轭二烯类聚合物的制造方法。(工序1)：在碱金属催化剂的存在下，在烃溶剂中使含有共轭二烯的单体聚合，得到在具有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链的一端具有来自该催化剂的碱金属的聚合物的工序。(工序2)：使在工序1中得到的聚合物和下述式(A)表示的三烷氧基硅烷化合物反应的工序。(式中，M表示氧原子或硫原子，R1、R2及R3分别表示独立的碳原子数为1～4的烷基，m表示1～5的整数，n表示0～5的整数。)
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公开(公告)号：CN102603975A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210026904.2
申请日：2012-01-29
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F236/10 , C08F230/08 , C08F4/48 , C08F8/42 , C08F8/30 , C08L9/06 , C08L15/00
CPC classification number: C08F236/06 , C08K3/013 , C08F212/08 , C08F4/48 , C08L21/00 , C08L15/00
Abstract: 本发明提供一种共轭二烯系聚合物的制备方法，共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物组合物。所述共轭二烯系聚合物的制备方法包括：使用由下式(1)表示的聚合引发剂，聚合含有共轭二烯化合物和含硅的乙烯系化合物的单体组分，其中，R11表示含6至100个碳原子的亚烃基，R12和R13表示任选具有取代基的烃基，或三烃基甲硅烷基，或者R12和R13相结合表示任选地具有选自由硅原子、氮原子和氧原子组成的原子组中的至少一种原子作为杂原子的亚烃基。
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公开(公告)号：CN102603974A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210020076.1
申请日：2012-01-21
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F236/10 , C08F236/06 , C08F230/08 , C08F4/56 , C08F8/42 , C08F8/30 , C08L9/06 , C08L15/00
CPC classification number: C08K3/36 , C08C19/44 , C08F212/08 , C08F230/08 , C08F236/14 , C08F4/48 , C08L15/00
Abstract: 本发明提供一种用于共轭二烯系聚合物的制备方法，共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物组合物。所述方法包括：使用下列化合物(I)和(II)作为聚合引发剂组分，聚合包含共轭二烯化合物和含硅的乙烯系化合物的单体组分：(I)有机碱金属化合物，(II)由下式(1)表示的化合物，其中，R11和R12表示含1至20个碳原子并且任选地具有取代基的烃基。
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