一种基于多铁异质结构的磁畴壁写入单元

    公开(公告)号:CN212934164U

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN202021578883.1

    申请日:2020-08-03

    Abstract: 本实用新型公开了一种基于多铁异质结构的磁畴壁写入单元,包括:底电极层,连接脉冲电压源;压电层,由铁电材料制成,设置于底电极层上;顶电极层,设置于压电层上,包含若干连接脉冲电压源的顶电极;磁性层,与顶电极处在同一层,由铁磁性材料制成,连接赛道存储器;所述底电极层下还设置有衬底层,整个写入单元外还设有保护层,其中磁性层的铁磁性材料具有磁各向异性,且具有磁致伸缩特性。本实用新型利用逆压电效应和磁致伸缩的逆效应,实现高存储密度,低功耗的磁畴壁写入。

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