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公开(公告)号：CN117604472A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202311596724.2
申请日：2023-11-24
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了一种具有层状结构的Fe‑Cr基复合涂层及其制备方法，属于反应堆包壳结构材料技术领域。其制备方法包括：在真空环境中，利用Ar+离子刻蚀基体后，采用磁控共溅射法和/或磁控交替溅射法在刻蚀后的基体表面沉积形成FeMoAl层和/或FeCrMoAl层与Cr层交替的Fe‑Cr基复合涂层。本发明通过改变磁控溅射的溅射方法来调控Fe‑Cr基复合涂层的层状界面结构，获得具有均匀的微观组织及优异的力学性能和热稳定性的具有层状结构的Fe‑Cr基复合涂层。
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公开(公告)号：CN112410727B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202011250640.X
申请日：2020-11-11
Applicant: 中国科学院合肥物质科学研究院 , 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了一种新型WCrSiN梯度涂层及其制备方法，涉及表面涂层技术领域，包括依次沉积在基体表面的多弧离子镀涂层和磁控溅射涂层，其中，多弧离子镀涂层包括依次沉积在基体表面的WCr涂层、WCrN涂层、WCrSiN涂层，磁控溅射涂层为WCrSiN涂层。本发明先采用多弧离子镀技术制备打底涂层，再利用磁控溅射技术制备表层涂层，将多弧离子镀和磁控溅射结合起来，充分发挥了这两种方法的优势，所得薄膜涂层与基体之间的结合强度高，薄膜涂层表面均匀且致密度高。此外，在涂层微结构上设计梯度结构，有利于增强涂层的综合性能，改善涂层的总厚度，可制备厚度在5μm以上的超硬涂层。
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公开(公告)号：CN112391591A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202011252080.1
申请日：2020-11-11
Applicant: 中国科学院合肥物质科学研究院 , 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了一种WCrSiN超硬涂层及其制备方法，涉及表面涂层技术领域，包括依次沉积在基体表面的WCrSi打底层和WCrSiN主体层。本发明提出了一种WCrSiN超硬涂层，该四元纳米复合超硬薄膜涂层中，(W，Cr)2N、(W，Cr)N、SiNx三相复合，基于固溶强化、多相强化以及纳米复合结构的组合，实现不同尺度的协同强化作用，从而最大程度上提高了薄膜的硬度，其硬度可达45GPa以上。此外，在溅射WCrSiN主体层前先在基体表面溅射一层WCrSi打底层，能够提高薄膜涂层与基体之间的结合力，改善膜裂等缺陷。本发明制备方法操作简单、沉积速率快、易于批量生产，有很好的推广价值。
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公开(公告)号：CN109957757A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201910270621.4
申请日：2019-04-04
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了一种两步法PVD技术制备超厚Ti‑Al‑C三元涂层的方法，对锆包壳基体样件进行表面洁净，冷风吹干样件后，装夹在真空腔室内的三维转架上，并对基体样件进行加热；充入Ar气，施加高偏压，对基体样件进行辉光溅射清洗或者电子枪加热清洗刻蚀；用引弧针开启TixAl弧靶，高偏压溅射清洗TixAl靶材，同时在基体表面生成基础层；低偏压沉积TixAl涂层，生成过渡涂层；调整合适的弧电流、偏压，开启中频磁控石墨靶，沉积Ti‑Al‑C超厚涂层；进行高温退火。本发明的制备工艺下得到的材料更能适用于核领域，使用更加安全，得到的材料的性能更好。
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