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公开(公告)号：CN117004906A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310352821.0
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种四面体非晶碳膜ta‑C涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将基体抛光处理，超声清洗后进行离子轰击；S2、再停留在Cr靶前，通过高功率脉冲反应溅射获得CrN底层；S3、再停留在Cr靶前，通过功率为5‑10kW的脉冲反应溅射获得CrC过渡层；S4、通入氩气和氮气，使用电弧离子镀引燃靶材；S5、再停留在石墨靶前，通过功率3.5‑6.0kw的脉冲多靶磁控溅射获得ta‑C涂层。本发明制备ta‑C涂层硬度达到32Gpa以上，具有低于0.085的摩擦系数，有较好的润滑性能，本发明方法能有效提高高功率脉冲磁控溅射沉积速率，提高涂层硬度和降低粗糙度，拓宽了此涂层技术和此涂层的研究范围。
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公开(公告)号：CN116623129A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310352820.6
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种基于反向正脉冲技术的四面体非晶碳膜ta‑C多层结构涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将清洗后的基体停留在Cr靶前，通过功率为15‑20kW的脉冲反应溅射CrN底层；S2、停留在Cr靶前，通过功率为5‑10kW的脉冲反应溅射CrC过渡层；S3、再停留在石墨靶前，通过功率为5‑8kw的脉冲多靶磁控溅射ta‑C涂层；在每个脉冲周期的尾部施加反向正脉冲的50‑550V反向电压、频率范围200‑5000Hz。本发明制备ta‑C涂层硬度达到30Gpa以上，具有低于0.1的摩擦系数，在制备ta‑C碳薄膜时，可将薄膜的离子能量提高2‑4倍；有效离子利用率和薄膜沉积速率提高50‑60％。
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公开(公告)号：CN113151797B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202110455477.9
申请日：2021-04-26
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种真空镀膜前离子清洗工艺，包括以下步骤：1、超声波清洗等离子基体表面杂质，装炉；2、在真空涂层设备内进行弧光增强氩离子轰击以清除基体表面杂质，采用电弧离子镀作为离化源，提供的电子流密度可达10+19/m3，同时其对面的柱状镀膜阴极在此过程转换为阳极，将高密度的电子流引向通过被清洗工件区域，将Ar原子离化，Ar+流作为对工件的离子清洗源使用；3、进入真空镀膜工艺步骤。本申请所述工艺既可以提供高密度的离子流清洗工件，保证工件各个角度得到充分清洗；又可以在使用较低偏压的情况下，防止过高金属离子流对精密工件的过度轰击作用，损坏工件。
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公开(公告)号：CN113036113B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202110267775.5
申请日：2021-03-11
Applicant: 东北大学
IPC: H01M4/48
Abstract: 本发明涉及一种掺杂BaSO4钠离子电池负极材料及其制备方法，包括以下步骤：(1)一步水热法制备SnO2材料；(2)将SnO2材料溶于去离子水中，加入稀硫酸溶液和Ba(OH)2溶液，实现BaSO4掺杂的SnO2复合材料；(3)碳热还原法制备ZnS/C复合材料：以锌盐、硫源为原料溶于去离子水，反应后得ZnS材料前驱体，再将前驱体溶于去离子水中，加入有机碳源，搅拌至水分全部蒸发后，置于惰性气氛中焙烧；(4)将BaSO4掺杂的SnO2复合材料和ZnS/C复合材料按比例混合。本发明方法制得的掺杂BaSO4制备的电极材料可以满足对钠离子电池负极材料的性能要求，具有较高的初始容量、较好的比容量、较高的首次库伦效率和理想的循环稳定性，使得钠离子电池在储能系统中的地位有所提升。
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公开(公告)号：CN110277555A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910532644.8
申请日：2019-06-19
Applicant: 东北大学
Abstract: 本发明公开了一种O3型钠离子电池正极材料、制备方法及应用。通过利用高温下易分解的钠盐、镍盐、锰盐以及铁盐与柠檬酸进行络合，充分反应后在利用水浴加热使溶液在不断搅拌的条件下蒸干得到湿凝胶。湿凝胶进行干燥处理之后先进行预烧充分除去有机物和大部分杂质，最后在高温下进行烧结得到NaNi0.4Mn0.4Fe0.2O2的黑色粉末。本发明O3型钠离子电池正极材料的制备过程中基本没有元素的损失，材料的元素化学计量比准确，制得的O3型钠离子电池正极材料颗粒较细，用于制备钠离子电池，具有较好的库伦效率和循环稳定性，在进行电化学测试时表现出较高的充放电比容量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108642530B
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201810551944.6
申请日：2018-05-31
Applicant: 东北大学
Abstract: 一种水溶液电解质中高效电沉积超高纯金属的装置和方法，属于电沉积金属技术领域。该装置，包括阴极、阳极、隔膜式电解槽和电源；所述的阴极由内置螺旋引线的超高纯金属箱式电极板构成；所述的螺旋引线为线径为0.5～2mm的导电丝形成的螺旋线圈，螺旋线圈直径为5～20mm，导电丝的匝数密度为1～5匝/cm。该方法为：根据所要制备的超高纯金属，配制相应的高纯金属盐水溶液，作为电解质；采用水溶液电解质中高效电沉积超高纯金属的装置，在25～30℃下，进行恒电流密度电沉积，剥离冲洗后，晾干，得到超高纯金属。该方法采用一种新型阴极，在电沉积过程中，阴极自身产生的微磁场和温度场，能够快速沉积晶粒大、纯度高的超高纯金属。
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公开(公告)号：CN117568762A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311531203.9
申请日：2023-11-16
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明涉及材料表面改性技术领域，具体来说，涉及一种利用高功率脉冲磁控溅射技术制备Si掺杂的ta‑C涂层的方法。所述方法以高功率磁控溅射技术制备ta‑C涂层，在制备ta‑C涂层时，掺杂Si，调节Si靶功率≤0.6kw。本发明采用的高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)制备ta‑C涂层，并在此基础上，掺杂Si元素，所得到的ta‑C涂层具有低于4.2的内应力的同时，摩擦系数降低至0.06，硬度也同时有所提高。本发明制备的Si掺杂的ta‑C涂层，其低内应力及低摩擦系数，对于汽车发动机及其零部件性能均有提升。
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公开(公告)号：CN116377386A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310352836.7
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种基于高功率脉冲磁控溅射技术的TiN/TiO2/α‑Al2O3涂层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、对基体进行离子清洗；S2、停在Ti靶前，功率为8‑15kW的脉冲反应溅射获得TiN过渡层；S3、再停在Ti靶前，功率为10‑15kW脉冲反应溅射获得TiO2过渡层；S4、再停在Al靶前，高功率脉冲反应溅射获得α‑Al2O3层，即得。本发明综合利用了高功率脉冲磁控溅射制备的TiN/TiO2/α‑Al2O3涂层具有高硬度、高热稳定性和低摩擦系数的优点，得到的多层涂层的硬度可达到27GPa以上，同时具有低于0.1的摩擦系数，具有较高的热稳定性和化学稳定性。
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公开(公告)号：CN112858162A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110199602.4
申请日：2021-02-22
Applicant: 东北大学
IPC: G01N19/04
Abstract: 本发明提供了一种覆膜铁表面膜层结合力的评价方法。环氧树脂与PET膜在结构上具有相似性，故本发明通过在镀铬板表面涂覆环氧树脂，模拟PET膜与镀铬板的结合，采用热振实验来衡量镀铬板表面与有机膜的结合能力，从而对膜层结合力的差异进行检测对比。本发明评价方法操作简单，可以根据实验结果直观看出不同镀液体系、不同结构的镀铬板表面与薄膜之间的结合力差异性，具有快速、有效、准确且绿色环保的优点。
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公开(公告)号：CN108385108B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201810352161.5
申请日：2018-04-19
Applicant: 东北大学
Abstract: 一种单晶高温合金精铸件化铣膏及其制备方法和应用，属于表面化铣技术领域。该单晶高温合金精铸件化铣膏，为混合水溶液和正硅酸酯类化合物的混合物，按体积比，混合水溶液：正硅酸酯类化合物＝1：(2～5)；混合水溶液中：硫酸为9～18mol·L‑1，FeCl3为0.3～2.0mol·L‑1，MnO2为3.0～10.0g·L‑1。其制备方法为配制混合水溶液，加入正硅酸酯类化合物搅拌1～2h。其对单晶高温合金精铸件和测试片进行化铣，尤其适用于对单晶高温合金精铸件局部表面进行化铣。该单晶高温合金精铸件化铣膏挥发性低，化铣效果好，对环境相对友好，其主要是用于去除铸造工艺中在单晶高温合金精铸件局部表层塑性变形残余应力集中层，可有效减少后续热处理过程中再结晶缺陷。
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