公开(公告)号：CN103384702B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201280009441.7

申请日：2012-01-24

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 山村刚平 ,  坂本纯 ,  末冈雅则 ,  广田真之

IPC: C08L67/04 ,  C08K9/04 ,  C08L101/16

CPC classification number: C08L67/04 ,  C08J5/18 ,  C08J2367/04 ,  C08K9/04 ,  C08K2003/265 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明要解决的课题是，提供柔软性、耐热性、耐析出性、耐久性优异、且为了表现良好的透湿度而进行的拉伸、压花等的加工性优异的聚乳酸系膜。因而提供了一种聚乳酸系膜，其特征在于，是由组合物形成的膜，所述组合物含有聚乳酸系树脂作为树脂(A)、含有聚乳酸系树脂以外的热塑性树脂作为树脂(B)、含有被表面处理剂处理过的化合物作为填充剂(C)，所述聚乳酸系树脂含有结晶性聚乳酸系树脂和非晶性聚乳酸系树脂，在树脂(A)和树脂(B)的合计100质量%中，含有树脂(A)10～95质量%、树脂(B)5～90质量%，并且相对于树脂(A)和树脂(B)的合计100质量份，含有填充剂(C)10～400质量份。

公开(公告)号：CN103597014A

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201280028855.4

申请日：2012-08-28

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 山村刚平 ,  广田真之 ,  浜崎莉沙 ,  山内英幸 ,  末冈雅则 ,  坂本纯

IPC: C08J5/18 ,  C08L67/00 ,  C08L67/04 ,  C08L101/16

CPC classification number: C08J5/18 ,  B29C59/04 ,  B29K2067/046 ,  C08J2367/04 ,  C08L67/04

Abstract: 本发明提供一种聚乳酸系膜，其为由含有聚乳酸系树脂(A)的组合物形成的膜，在膜的至少一面具有凹部或凸部的不连续部分，透湿率为500～3,000g/(m2·天)。其为透湿性、防水性、柔软性、加工性优异，并且高生物质度的聚乳酸系膜。

公开(公告)号：CN103384702A

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201280009441.7

申请日：2012-01-24

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 山村刚平 ,  坂本纯 ,  末冈雅则 ,  广田真之

IPC: C08L67/04 ,  C08K9/04 ,  C08L101/16

CPC classification number: C08L67/04 ,  C08J5/18 ,  C08J2367/04 ,  C08K9/04 ,  C08K2003/265 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明要解决的课题是，提供柔软性、耐热性、耐析出性、耐久性优异、且为了表现良好的透湿度而进行的拉伸、压花等的加工性优异的聚乳酸系膜。因而提供了一种聚乳酸系膜，其特征在于，是由组合物形成的膜，所述组合物含有聚乳酸系树脂作为树脂(A)、含有聚乳酸系树脂以外的热塑性树脂作为树脂(B)、含有被表面处理剂处理过的化合物作为填充剂(C)，所述聚乳酸系树脂含有结晶性聚乳酸系树脂和非晶性聚乳酸系树脂，在树脂(A)和树脂(B)的合计100质量%中，含有树脂(A)10～95质量%、树脂(B)5～90质量%，并且相对于树脂(A)和树脂(B)的合计100质量份，含有填充剂(C)10～400质量份。

公开(公告)号：CN1878653A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200480033366.3

申请日：2004-11-11

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 末冈雅则 ,  佃明光

IPC: B29C55/14 ,  G11B5/73 ,  B29C41/24 ,  C08J5/18 ,  C08L77/10

CPC classification number: G11B5/73 ,  H05K1/0346 ,  H05K1/0393 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31725

Abstract: 本发明提供一种薄膜，其特征在于，在180℃、无张力下进行热处理30分钟时的宽度方向的热收缩率为1.0～2.5％，在将长度方向和宽度方向的热膨胀系数分别记作αMD(×10－6/℃)、αTD(×10－6/℃)、长度方向和宽度方向的湿度膨胀系数分别记作βMD(×10－6/％RH)、βTD(×10－6/％RH)时，同时满足下式(1)～(4)，还提供一种使用了该薄膜的磁记录介质。本发明的薄膜，通过将由温度、湿度导致的尺寸变化规定在特定的范围内，可以使形成磁记录介质时的尺寸变化，以及长度方向与宽度方向的尺寸变化的差变得极小。－10≤αMD≤10 (1)；αMD－10≤αTD≤αMD－3 (2)；－10≤βMD≤10 (3)；βMD－10≤βTD≤βMD－3 (4)。

公开(公告)号：CN1197056C

公开(公告)日：2005-04-13

申请号：CN01101686.8

申请日：2001-01-18

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 末冈雅则 ,  佃明光 ,  伊藤伸明

IPC: G11B5/62 ,  G11B5/73 ,  C08J5/18

CPC classification number: G11B5/7315 ,  G11B5/64 ,  G11B5/70 ,  G11B5/7325 ,  G11B5/733 ,  G11B5/735 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/31725

Abstract: 磁记录介质，以芳族聚酰胺为主成分的基膜的至少一面上直接设置的磁性层表面10nm以上的突起数Na(10)(个/mm2)、50nm以上的突起数Na(50)(个/mm2)及基膜磁性层设置侧的同一面上10nm以上突起数Na(10)’(个/mm2)满足：2×104≤Na(10)≤2×107、0≤Na(50)≤5×104、-0.9≤(Na(10)-Na(10)’)/Na(10)’≤0。高刚性芳族聚酰胺膜为非磁性支持体，磁性层表面和基膜表面特性为特定、总厚薄且高记录容量、走带耐久性好、记录·读出可靠性高，可很好地适用于计算机数据记录。

公开(公告)号：CN1308318A

公开(公告)日：2001-08-15

申请号：CN01101686.8

申请日：2001-01-18

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 末冈雅则 ,  佃明光 ,  伊藤伸明

IPC: G11B5/62 ,  G11B5/73 ,  C08J5/18

CPC classification number: G11B5/7315 ,  G11B5/64 ,  G11B5/70 ,  G11B5/7325 ,  G11B5/733 ,  G11B5/735 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/31725

Abstract: 磁记录介质,以芳族聚酰胺为主成分的基膜的至少一面上直接设置的磁性层表面10nm以上的突起数Na(10)(个/mm2)、50nm以上的突起数Na(50)(个/mm2)及基膜磁性层设置侧的同一面上10nm以上突起数Na(10)’(个/mm2)满足:2×104≤Na(10)≤2×107、0≤Na(50)≤5×104、－0.9≤(Na(10)－Na(10)’)/Na(10)’≤0。高刚性芳族聚酰胺膜为非磁性支持体,磁性层表面和基膜表面特性为特定、总厚薄且高记录容量、走带耐久性好、记录、读出可信度高,可计算机数据记录用。

公开(公告)号：CN1066750C

公开(公告)日：2001-06-06

申请号：CN97110247.3

申请日：1997-02-27

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 筑木稔博 ,  末冈雅则 ,  伊藤伸明

IPC: C08J5/18 ,  C08L77/00 ,  C08L79/08 ,  G11B5/62

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2377/10 ,  C08J2379/08 ,  G11B5/733 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24992 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31725

Abstract: 本发明提供移行性和耐擦痕性优良的、作为磁记录介质时的S/N之比良好的薄膜。一种以芳族聚酰胺和/或芳族聚酰亚胺为主成分、并在该成分中含有粒子的薄膜，在该膜的至少一面，粒子浓度最初显示极大值的深度作为dmax，比dmax深从表面到1μm的范围内的粒子浓度显示最小值或极小值的深度作为dmin，比dmax深粒子浓度分布曲线的1次微分值显示负的变曲点的深度作为d”，在各深度的粒子浓度作为ρ(d)时，要满足下式：10nm≤dmax≤300nm(1)3≤ρ(dmax)/ρ(dmin)≤100(2)或者10nm≤dmax≤300nm(3)3≤ρ(dmax)/ρ(d”)≤100(4)ρ(dmax)/ρ(dmin)>100(5)作为其特征的芳族聚酰胺和/或芳族聚酰亚胺薄膜。

公开(公告)号：CN1206428A

公开(公告)日：1999-01-27

申请号：CN97191520.2

申请日：1997-08-29

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 佃明光 ,  末冈雅则 ,  筑木稔博

IPC: C08J5/18 ,  G11B5/704 ,  C08L77/10

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2377/10 ,  G11B5/73 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31725 ,  Y10T428/31765

Abstract: 本发明提供了芳族聚酰胺树脂类模塑制品,该模塑制品包括至少一个具有下述性能的表面,其均方根糙度等于或大于1.0纳米、10点平均糙度等于或小于80纳米,两种糙度均以原子力显微镜测定,至少一个方向的拉伸杨氏模量等于或大于9.8GPa。这类芳族聚酰胺树脂模塑制品有效地用作薄膜材料,特别是磁记录媒体用薄膜,它具有高耐擦伤性和高度均匀的表面突起。

公开(公告)号：CN1172022A

公开(公告)日：1998-02-04

申请号：CN97111279.7

申请日：1997-04-19

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 筑木稔博 ,  末冈雅则

IPC: B41M5/04

CPC classification number: B29D7/01 ,  B41M5/41 ,  Y10T428/24901 ,  Y10T428/31725

Abstract: 能够提供高精确打印质量,适合多次打印操作的用于热记录的图像转印材料,包括基底膜,在其一个表面上具有彩色材料层。基底膜由芳香聚酰胺制成,并且在20℃和相对湿度60%下测定,具有至少6.86GPa的纵向方向杨氏模量EMD。基底膜处于基本上平整状态,并且在不施加张力的200℃下加热处理10分钟之后能够保持平整的状态。