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公开(公告)号:CN1822352A
公开(公告)日:2006-08-23
申请号:CN200610002183.6
申请日:2006-01-18
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/136213 , G02F1/136227 , G02F2001/136236 , H01L27/1214 , H01L27/124 , H01L27/14692
Abstract: 本发明提供了一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法。该方法包括:在基底上形成栅极线;在栅极线上形成栅极绝缘层;在栅极绝缘层上形成半导体层;在半导体层上形成数据线和漏极;在数据线和漏极上沉积钝化层;在钝化层上形成包括第一部分和比第一部分薄的第二部分的光阻剂;将光阻剂作为掩模蚀刻钝化层,从而至少部分地暴露漏极的一部分;去除光阻剂的第二部分;沉积导电膜;去除光阻剂,从而在漏极的暴露部分上形成像素电极。