微机电系统装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101092233A

    公开(公告)日:2007-12-26

    申请号:CN200710004745.5

    申请日:2007-01-30

    Abstract: 本发明提供一种双轴微机电系统(MEMS)装置。该MEMS装置包括移动板、台、驱动线圈、一对磁体、以及轭磁性体。该移动板被共轴支承在垂直于第二轴设置的第一轴上从而绕该第一轴枢转地移动。该台在该移动板的内部区域中被共轴支承在该第二轴上。该驱动线圈包括沿该驱动板的第一轴布置且通过所述台在中心分开的共轴线圈部分、以及第一连接线圈部分和第二连接线圈部分。该对磁体分别设置。该轭磁性体设置在该对磁体之间在该磁体之上或之下的区域中并由能够被该磁体磁化的材料形成,从而根据该对磁体之间的距离突然地改变磁通密度。该MEMS装置提供了绕两个轴的可靠驱动并使旋转力加倍。

    带单电枢的微电子机械系统

    公开(公告)号:CN1211274C

    公开(公告)日:2005-07-20

    申请号:CN02124681.5

    申请日:2002-05-10

    Inventor: 姜锡镇 赵镇佑

    CPC classification number: H01H59/0009 H01H1/20

    Abstract: 本发明提供了一种带单电枢的微电子机械系统(MEMS)开关。此MEMS开关包括:一个衬底;安装于衬底上彼此远离的地线;位于地线间以预定间隙相隔的信号传输线;置于信号传输线间的电枢;一个围绕在电枢周围的驱动电极,且该电极不与电枢、信号传输线、地线接触;以及驱动电极上的移动片,它与信号传输线的一部分重叠,并与电枢弹性连接。

    利用离心力干燥晶片的防吸附方法和设备

    公开(公告)号:CN1405847A

    公开(公告)日:2003-03-26

    申请号:CN02125134.7

    申请日:2002-06-28

    CPC classification number: H01L21/67034 B81C1/00928

    Abstract: 提供一种利用离心力干燥晶片的防吸附方法和设备。此防吸附方法包括如下步骤:(a)使用蚀刻溶液除去叠置在晶片与微型结构间的牺牲层,(b)在漂洗溶液中漂洗蚀刻的微型结构和蚀刻的晶片达一预定时间,以致微型结构与晶片间的蚀刻溶液为漂洗溶液代替,(c)把漂洗过的晶片装在连接于一转动轴的一安装装置中并通过轴的转动除去留在晶片与微型结构间的漂洗溶液。晶片以铅直位置装在安装装置中,以致微型结构面向转动轴之外。因此,可以防止干燥过程中由MEMS工艺方法制成的微型结构与晶片间的吸附现象。

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