公开(公告)号：CN1122187C

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN98124415.7

申请日：1998-10-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张祐赫 ,  李相润 ,  俞炳权 ,  金定姬 ,  李泰衡

IPC: G02B6/10

CPC classification number: C03C17/02 ,  C03C17/3411 ,  C03C2218/33 ,  G02B6/136 ,  G02B2006/1215

Abstract: 一种在一个腔室里制作平面光波导的方法，包括的步骤是：在基片上沉积一包覆层和一核心层，在核心层上沉积一腐蚀掩膜层，并在腐蚀遮挡层上形成光刻胶图案，依照光刻胶图案，使用第一种气体，形成腐蚀掩膜图案，并除去第一种气体。根据腐蚀掩膜图案使用第二种气体，通过对核心层腐蚀形成光波导，使用第一种气体除去腐蚀掩膜图案然后在上述步骤的最终结构上沉积与核心层相同材料的顶层包覆层。

公开(公告)号：CN1115573C

公开(公告)日：2003-07-23

申请号：CN00105874.6

申请日：2000-04-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金定姬 ,  韩官秀 ,  张祐赫 ,  徐东鹤 ,  李泰衡

IPC: G02B6/16 ,  C08G73/10

CPC classification number: G02B6/138 ,  C08G73/10 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  G02B1/046 ,  G02B1/048 ,  Y10T428/23 ,  Y10T428/24942 ,  C08L79/08

Abstract: 一种光波导管，包括由一种聚合物形成的核芯层，和与该核芯层邻近的外包层，该外包层是由这样一种聚合物形成的，这种聚合物的折射率小于核芯层的聚合物的折射率，其中用于核芯层和外包层的聚合物选自具有式(1)的共聚物，其中X为(2)或者(3)Y为(4)或者(5)n是数值范围为0.05≤n＜1的摩尔比率。因而，通过在形成光波导管中使用容易控制折射率的聚酰亚胺，光波导管的核芯层和外包层之间的折射率差异与使用硅的情况相比可被进一步提高。结果可制造用于光通信的亚小型钝态装置。

公开(公告)号：CN1218913A

公开(公告)日：1999-06-09

申请号：CN98124454.8

申请日：1998-11-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申相永 ,  宋炫采 ,  李相润 ,  张祐赫

IPC: G02B27/10

CPC classification number: G02B6/125 ,  G02B2006/1215

Abstract: 一种采用光束分离器和光束扩展器的光功率分配器和制造方法。该光功率分配器包括一个具有输入端口的输入光波导,一组具有至少两个输出端口的输出光波导,其中输出光波导的数目等于输出端口的数目,以及一个光束扩展器,该光束扩展器是由折射率高于输入和输出光波导外覆盖的材料构成,用预定比例分离该光到输出光波导。因此,该光功率分配器的长度变得较短并且插入损耗能够降低。不同的光功率分配器,可提供不同的分离比。

公开(公告)号：CN1210116A

公开(公告)日：1999-03-10

申请号：CN98117668.2

申请日：1998-09-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩官秀 ,  张祐赫 ,  金银枝 ,  李泰衡

IPC: C08G65/00

CPC classification number: C08G65/4006 ,  C08G2650/48

Abstract: 一种用于光学通讯的聚亚芳基醚,用化学式(1)表示:式中X1、X2、X3和X4各单独选自由氢、氟、氯组成的组,Y1和Y2分别为氢或氟,Q1和Q2分别为氢或氯,A是选自如下一组:－O－、－S－、－P(OR)－、－C(CF3)2－、－(CF2)l－、－(CCl2)l－－CO－及SO2－(其中R是CF3－、CCl3-、C6F5－、C6Cl5－,l是1—8的一个整数),m1是1或2,m2是0,1,或2,n和k代表摩尔份数。该聚亚芳基醚具有优良的耐热性和薄膜加工性能及在光通讯波长范围内的光吸收损失较低。

公开(公告)号：CN1205449A

公开(公告)日：1999-01-20

申请号：CN98102842.X

申请日：1998-07-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李相润 ,  张祐赫

IPC: G02F1/035

CPC classification number: G02F1/3558 ,  G02F1/035

Abstract: 本发明提供了一种集成光学强度调制器及其制造方法。该调制器包括一具有自发极化、沿一预定方向切割的基片;一在所述基片上形成的光波导;一组具有沿自发极化相反方向的畴域的畴反向区域;以及一个形成在所述光波导上的第一电极和形成在所述基片上的光波导右边和左边的第二和第三电极,其中如果将一预定电压施加到第一电极,光波根据所述光波导中的畴反向区域的折射率和所述自发极化区域折射率的变化在畴反向区域折射和散射。