沉积装置
    23.
    发明公开
    沉积装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113755811A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202110612779.2

    申请日:2021-06-02

    Abstract: 根据本发明的一实施例,沉积装置包括:壳体;喷嘴,设置在所述壳体上,并且限定有第一喷嘴孔和与所述第一喷嘴孔相邻的第二喷嘴孔;坩埚,设置在所述壳体的内部,并且具备收容第一沉积物质的第一坩埚及收容第二沉积物质的第二坩埚;以及连接部,具备设置在所述第一喷嘴孔与所述第一坩埚之间的第一管及设置在所述第二喷嘴孔与所述第二坩埚之间的第二管。

    检查装置
    24.
    发明公开
    检查装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN112781836A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN202011094565.2

    申请日:2020-10-14

    Abstract: 本发明涉及一种检查装置。检查装置包括:工作台,用于放置一面涂覆有粘合层的载体基板;光源部,位于工作台的下方,向粘合层照射入射光;拍摄部,位于工作台上,获取入射光透射的粘合层的图像;测量部,测量图像的色阶,进而测量具有大于基准色阶的色阶的不良面积;计算部,计算不良面积的比率;以及控制部,比较不良面积的比率与基准比率而判断粘合层的涂覆状态。

    显示装置
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112241083A

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN202010535983.4

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 提供了显示装置。显示装置可包括以下元件,即,晶体管、与晶体管电连接的像素电极、与像素电极重叠的第一滤色器、包括与第一滤色器相同的材料的第一滤色构件、与第一滤色器部分地重叠或与第一滤色器紧邻的第二滤色器、与第一滤色构件重叠并且与第二滤色器部分地重叠或与第二滤色器紧邻的第三滤色器、与第三滤色器重叠的主间隔物以及与第一滤色器或第二滤色器重叠并且比主间隔物短的辅助间隔物。第三滤色器包括第一部分和第二部分,第三滤色器的第一部分与第一滤色构件重叠。第三滤色器的第二部分与第三滤色器的第一部分相邻,并且比第三滤色器的第一部分厚。

    切割装置
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110815328A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201910720991.3

    申请日:2019-08-06

    Abstract: 一种切割装置包括:台,预堆叠体被设置在所述台上,具有边缘的切割堆叠体由所述预堆叠体形成;切割单元,能够沿着与所述切割堆叠体的边缘的延伸方向对应的第一方向移动,并且所述预堆叠体利用所述切割单元被切割以形成所述切割堆叠体;第一分离单元,能够沿着与所述第一方向形成锐角的方向移动,并包括第一分离工具,当将所述切割堆叠体从承载基板分离时所述第一分离工具接触所述切割堆叠体;和第二分离单元,能够沿着与所述第一方向平行的方向移动,并包括第二分离工具,当将所述切割堆叠体从所述承载基板分离时所述第二分离工具被插入在所述切割堆叠体与所述承载基板之间。

    显示装置
    27.
    实用新型

    公开(公告)号:CN222485231U

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202420302843.6

    申请日:2024-02-19

    Abstract: 本公开公开了显示装置,该显示装置包括:第一基板,包括部件区和围绕部件区的至少一部分的主显示区;第二基板,设置在第一基板上并且包括部件区和围绕部件区的至少一部分的主显示区;第一‑1电极,设置在第一基板的一个表面上;以及第二‑1电极,设置在第二基板的一个表面上,其中,第一基板和第二基板中的每一个包括电致变色材料。

    蒸镀装置
    28.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221254683U

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202322841780.X

    申请日:2023-10-23

    Abstract: 蒸镀装置包括:气化部,使彼此不同的第一材料、第二材料、第三材料气化;以及第一喷嘴部,与所述气化部相邻连接,所述第一喷嘴部包括:第一喷嘴孔,排出所述第一材料;第二喷嘴孔,与所述第一喷嘴孔邻接并排出所述第二材料;以及第三喷嘴孔,与所述第一喷嘴孔以及所述第二喷嘴孔邻接并排出所述第三材料。

    沉积源
    29.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219526764U

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202320190741.5

    申请日:2023-02-10

    Abstract: 本实用新型一实施例公开了一种沉积源,所述沉积源包括:壳体,沉积物质容纳在所述壳体的内部;多个第一喷嘴,朝向掩模组件喷射所述沉积物质;第二喷嘴,布置在所述多个第一喷嘴中的至少一部分第一喷嘴的外侧,并且在第一方向和与所述第一方向垂直的第二方向上与所述第一喷嘴间隔开并围绕所述第一喷嘴。

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