一种新型上料系统
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107553195A

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201710857276.5

    申请日:2017-09-21

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了一种新型上料系统,包括上料机构、定位机构;所述的上料机构包括L型进料管、顶部进料装置、底部上料装置,所述的L型进料管的水平管端头设置有底部上料装置,底部上料装置位于定位机构内,L性进料管的顶部设置有顶部进料装置,所述的顶部进料装置包括前后设置有的U型槽体,U型槽体内设置有前后方向移动的输送板,输送板开有固件多个固件通孔,每个固件通孔中放置有一个加工件,U型槽体与L型进料管处开有进料口,该进料口与固件通孔相对应,L型进料管的底部左侧设置有伸缩电机,伸缩电机通过输出轴连接有顶板,L型进料管上开有与顶板相对应的顶板通孔。本发明的有益效果是:自动化程度高。

    一种快速上料、加工装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107598647A

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201710857279.9

    申请日:2017-09-21

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了一种快速上料、加工装置,包括上料圆盘、定位机构;所述的上料圆盘沿其周向均匀地开有多个放料块,放料块沿竖直方向开有放料通槽,放料块的放料通槽底部位置设置有伸缩底板,上料圆盘的一部分伸入定位机构中,上料圆盘的中心处设置有转动轴A;所述的定位机构包括上定位座和下定位座,上定位座下方的一侧设置有上杆,上杆的底端设置有上吸盘,上吸盘与上吸附气缸相连,上吸盘与上料圆盘中的放料块相对应,在上定位座下方与上杆相对应的另外一侧设置有加工工具,上定位座的上方设置有转动轴B;下定位座上开有定位槽,定位槽的正下方设置有下吸盘。本发明的有益效果是:上料快速、加工快速、固定牢靠。

    磁条写入系统
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107577971A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710856779.0

    申请日:2017-09-21

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了磁条写入系统,涉及磁条写入领域;包括主控制器、电压比较电路、开关电路以及D/A转换电路;所述主控制器向开关电路发出导通或截止的控制指令;所述电压比较电路采集写入磁头的反馈信号,通过比较反馈信号对应的采样电压Vs与预设比较电压值Vref的大小,对开关电路发出信号,控制开关电路导通或截止;所述开关电路接收来自主控制器的控制指令和/或电压比较电路的控制信号,进而执行导通或截止操作;所述D/A转换电路用于设置比较电压值Vref,用于与采样电压Vs作比较。实现应用于不同厂家的写磁磁头,经过修改电路上设定电流的器件参数,使电流满足写磁要求,能够应用于不同矫顽力磁条的写磁,使磁条写入更加方便提高了工效。

    电容检测装置及系统
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107560640A

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201710856830.8

    申请日:2017-09-21

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了电容检测装置及系统,涉及电容检测领域;包括:电容式微机械超声换能器、反馈电阻、补偿电阻、补偿电容以及运算放大器;所述电容式微机械超声换能器用于将直流偏置电压转化为微弱的电流信号;所述反馈电阻将电容式微机械超声换能器产生的微弱的电流信号转换为电压信号;所述补偿电阻保证运算放大器两输入端对地直流电阻相等;所述补偿电容用于运算放大器进行超前补偿;所述运算放大器用于对输入的电流信号进行放大。本发明电路简单,能够有效抑制漂移严重的问题,使得测量效果更加精确;克服了传统电荷转移法中电容的充放电由电子开关网络来控制,但电子开关会带来电荷注入效应,对测量结果的影响无法完全避免的缺陷。

    一种净水系统
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112661329A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011391117.9

    申请日:2020-12-02

    Abstract: 本发明公开了一种净水系统,在使用中,待净化的水从进水口进入机壳内的第一分区中,水首先流满左侧第一个缓水板左侧区域,斜置的缓水板对水进行缓流作用,缓流的水中的较重杂质向下沉淀并通过下水口进入该区域的积流仓内;依次类推,各个缓水板均对水进行沉淀处理,沉淀杂质落入积流仓内;第一分区对水沉淀处理后,水翻过左侧第一个溢流板后进入第二分区,第二分区中的紫外杀菌系统对水进行紫外杀菌,杀灭水中的细菌真菌等,经过杀菌后的水翻过第二个溢流板后进入第三分区,然后水再由出水口排出;各溢流板保证第一分区内的良好沉淀效果,同时起到挡光作用,防止第二分区内的紫外光从第一分区和第三分区透出倒机壳外界对他物造成伤害。

    一种上料装置
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107826642A

    公开(公告)日:2018-03-23

    申请号:CN201710857296.2

    申请日:2017-09-21

    Inventor: 张俭平

    CPC classification number: B65G33/14 B65G33/24 B65G43/00 B65G53/24

    Abstract: 本发明公开了一种上料装置,包括上料圆盘、定位机构,所述的上料圆盘沿其周向均匀地开有多个放料块,放料块沿竖直方向开有放料通槽,放料块的放料通槽底部位置设置有伸缩底板,伸缩底板与伸缩气缸相连,所述的定位机构包括上定位座和下定位座,上定位座中的下端面沿竖直方向设置有上杆,上杆的下端头设置有上吸盘,所述的下定位座的上开有定位槽,定位槽的底部上沿竖直方向开有多个通孔,定位槽的正下方设置有下吸盘,所述的下吸盘的上表面设置有多根吸杆,吸杆穿过定位槽底部,吸杆的上端头设置有吸附口。本发明的有益效果是:上料快速。

    一种立式钢瓶表面喷漆装置

    公开(公告)号:CN107649311A

    公开(公告)日:2018-02-02

    申请号:CN201710793964.X

    申请日:2017-09-06

    Inventor: 张俭平

    CPC classification number: B05B13/0221 B05B13/0421

    Abstract: 本发明公开了一种立式钢瓶表面喷漆装置,它包括喷漆房(1)、旋转机构以及设置于喷漆房(1)内的喷漆机构,喷漆机构包括电机A(3),电机A(3)的输出轴上安装有转盘(4),旋转机构包括工作台(9)、设置于工作台(9)下方的减速箱(10)和电机B(11),电机B(11)的输出轴与减速箱(10)的输入端连接,减速箱(10)的输出端连接有转轴(12),转轴(12)向上贯穿工作台(9)设置且旋转安装于工作台(9)上。本发明的有益效果是:减轻工人劳动强度、提高喷漆效率、提高喷漆质量、保护工人身心健康。

    一种交通事故现场闯入报警设备

    公开(公告)号:CN107622695A

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201710794177.7

    申请日:2017-09-06

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了一种交通事故现场闯入报警设备,包括报警装置和示警装置,报警装置包括竖杆,竖杆上环绕设有多个第一安装槽,第一安装槽的内侧壁转动连接有支撑腿,支撑腿远离第一安装槽内底部的一端设有收纳槽,收纳槽的内侧壁转动连接有调节片,调节片通过弹簧与收纳槽的底部连接,多个支撑腿之间设有调节机构,支撑腿的上方设有控制箱,控制箱与竖杆固定连接,竖杆的下端固定有配重块,竖杆远离配重块的一端设有报警装置,报警装置包括报警灯和鸣笛器,报警灯与竖杆固定连接。本发明结构简单,使用方便,便于移动和运输,现场的布置快捷,节约救援时间,提高救援效率,可以有效预防二次事故的产生,保证事故处理人员的安全。

    一种餐盘的初步清洗装置
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107616767A

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201710865963.1

    申请日:2017-09-22

    Inventor: 张俭平

    Abstract: 本发明公开了一种餐盘的初步清洗装置,包括清洗柜体和伸缩箱槽体,清洗柜体内水平设置有清洗腔,清洗腔上壁上设置有多个喷头,伸缩箱槽体位于清洗腔内,伸缩箱槽体内设置有上半圆槽架和下半圆槽架,上半圆槽架和下半圆槽架一侧铰接而另外一侧为开闭锁,上半圆槽架和下半圆槽架的外侧面沿其周向设置有个滚动槽块,在清洗腔内设置有滚动槽块与之相适配的滚轮,滚轮的底座为伸缩座;所述的上半圆槽架和下半圆槽架的内侧面均设置有多个固件机构,所述的固件底块和固件防滑块,所述的固件底块开有凹槽,固件防滑块适配地放置在该凹槽中,该凹槽的底部和固件防滑块的底部设置有弹簧。本发明的有益效果是:清洗快速、适用不同型号。

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