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公开(公告)号:CN207208367U
公开(公告)日:2018-04-10
申请号:CN201720920418.3
申请日:2017-07-26
Applicant: 弘大科技(北京)股份公司
Abstract: 本实用新型公开了一种具有滞留层自修复功能的超疏减阻防污表层结构,包括需要减阻的固体、多孔板、蒙皮和流体加压装置;多孔板装置在需要减阻的固体表面外侧从而形成中空腔,多孔板外部包裹具有若干纳米级通孔的蒙皮;流体加压装置与中空腔体连通;流体加压装置将流体注入中空腔内,注入中空腔内的流体在压差的作用下由中空腔流过多孔板,填充满蒙皮的若干纳米级通孔,在蒙皮外侧形成流体滞留层,该流体滞留层能够在中空腔内的流体的压差作用下从中空腔补充流体恢复到初始状态,从而在需要减阻的固体表面外侧形成具有自修复功能的流体滞留层。上述结构能够避免物质在需要减阻的固体表面附着和减少与外界流体的摩擦阻力。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利