电致变色显示面板及电子纸
    281.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111123601A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201811292756.2

    申请日:2018-11-01

    Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸,包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板,电致变色像素阵列包括若干阵列排布,独立控制的电致变色单元,电致变色单元包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极;第一电极具有与第二电极相对的第一相对面,第二电极具有与第一电极相对的第二相对面,第一相对面和/或第二相对面上设有若干微纳结构。以黑色电致变色像素层形成电致变色单元,能实现黑色、灰色和白色显示,并且在第一电极和/或第二电极上设置微纳结构,可以增加其接触面积,使其具有更好的电化学性能,并使两电极之间的电场的分布更均匀,从而加强其导电效果和响应速度,且其结构简单,易于制备。

    一种激光点焊拼版方法
    282.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110756993A

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201810832929.9

    申请日:2018-07-26

    Abstract: 本发明公开了一种激光点焊拼版方法,包括如下步骤:A、将全息图像的单元镍版裁切至所需形状和尺寸,以获得裁切后的单元镍版;B、将若干个所述裁切后的单元镍版进行拼接,以全息图像向下,用激光点焊的方法将所述拼接的各单元镍版间局部固定,以获得带有缝隙的单元组合版;C、将所述单元组合版放入电铸槽中进行电铸处理,使单元组合版的缝隙填平,进而获得拼版母版。本发明公开的方法,可适用具有较大版厚差值的单元镍版之间的拼版,单元镍版厚度差可达100μm,且采用镍版背面点焊结合电铸的拼版方法,对镍版正面全息图像无损伤。

    匀光板及匀光照明装置
    283.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110554449A

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201810554916.X

    申请日:2018-06-01

    Abstract: 本发明涉及一种匀光板及匀光照明装置,所述匀光板设置有用于均匀分散光线的微纳结构,所述微纳结构具体为凹坑或自由曲面透镜或微透镜等微纳结构。所述匀光照明装置包括至少一个匀光板,还包括至少一个设置在所述匀光板入光侧的主动式发光光源及设置在所述匀光板出光侧的光谱调制层;所述主动式发光光源发出的光通过所述匀光板被均匀散射,再通过所述光谱调制层调制并拓宽光谱,形成所需的可见光。与现有技术相比,本发明在主动式发光光源及光谱调制层之间添加了一个匀光板,使得光线在匀光板中传播并被设置在匀光板上的微纳结构均匀且充分地散射,以使得照明装置的亮度均匀度大幅度提高。

    一种宽视角波导镜片及制作方法和头戴式三维显示装置

    公开(公告)号:CN106526730B

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201611040561.X

    申请日:2016-11-21

    Abstract: 本发明公开了一种宽视角波导镜片及制作方法和头戴式三维显示装置,利用具有能实现会聚光场视角放大功能即光栅透镜功能的纳米光栅结构,实现三维虚拟信息的视角放大,并在人眼前投射,通过宽视角波导镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合,由于视角得以放大,使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象,使得体验更加真实,同时基于全息原理,可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合,从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。

    一种头戴式三维显示装置
    288.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106371218B

    公开(公告)日:2019-05-24

    申请号:CN201610970307.3

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置,包括图像生成装置,和对应眼睛的可视镜片,所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜,从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片,所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配,在人眼前方投射出会聚波面,形成虚拟景象;或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加,得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像,形成虚拟景象,其和现实景物在人眼中成像的原理一致,因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。

    AMOLED用金属掩膜板的制造方法

    公开(公告)号:CN108728790A

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201710263831.1

    申请日:2017-04-21

    Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法,包括步骤:选取导电基板;在导电基板的表面涂布一层光刻胶;使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形,但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸;在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长,使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度,金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖,直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致;去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型,工艺简单,成本低廉,而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板,因此精度更高。

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