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公开(公告)号：CN112987501B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN111438626B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201811610592.3
申请日：2018-12-27
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光系统及抛光方法，抛光系统包括抛光固定装置和抛光设备，其能够对堆叠在一起的片状的待抛光产品进行抛光，每张待抛光产品设置有用于定位的定位孔。本发明的目的是提供抛光系统及抛光方法，抛光系统的抛光固定装置将数百片产品固定后，抛光设备可以一次性对数百片产品进行抛光，在提高了抛光效率的同时，大幅度减少了抛光后产品的废品率，废品率低达千分之三左右。
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公开(公告)号：CN112799285B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN114167621A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111485984.3
申请日：2021-12-07
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B30/31
Abstract: 本发明公开了一种裸眼3D显示装置，包括至少一块指向型投影屏幕，一组激光照明光源和多视角图像显示装置；指向型投影屏幕的出光面上设有指向型液晶纳米光栅板；激光照明光源为一组统一旋向的三色圆偏振态激光；激光扫描提供多视角图像，且对投射的三色圆偏振态激光进行调制，将多视角图像的像素与所述指向型投影屏幕上的相位光栅的像素对应，调制后的三色圆偏振态激光经指向型投影屏幕并经过空间传播后，形成不同视点的出射光场，多视点的光场形成水平观察视窗，即实现裸眼3D显示。本发明具有观察时不产生视觉疲劳、对观察位置没有限制、保持了3D显示分辨率和相对于浮雕光栅更易于贴合的优点。
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公开(公告)号：CN113156550A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110297641.8
申请日：2021-03-19
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 盐城维旺科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B3/00 , G02B5/02 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种Mini LED匀光片及其制备工艺、背光模组，所述匀光片包括基底、设于所述基底一侧的若干个微透镜结构及设于所述基底另一侧的凸镜结构，若干个所述微透镜结构排成多行，相邻两行中的若干个所述微透镜结构呈交错排布、或随机排布、或正交排布，相邻的两个微透镜结构之间部分重叠，所述微透镜结构包括凹陷结构和/或凸起结构，所述凸镜结构包括若干个具有设定形状的凸镜体。本申请的Mini LED匀光片，其一侧设有微透镜结构，另一侧设有凸镜结构，使得灯珠面板均匀出光，提高了光的利用效率，保证雾度的同时增强透光率，并采用叠加光刻技术，Mini LED匀光片上微透镜结构占空比可达100％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109932869B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201711375723.X
申请日：2017-12-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。
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公开(公告)号：CN112799285A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN112799237A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN202110031925.2
申请日：2021-01-11
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/26
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置。所述裸眼三维显示装置包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；视角调控器，其包括由多个微棱镜块阵列排布而成的微棱镜块阵列。微棱镜块阵列的微棱镜块被分成多组，各个微棱镜块的第一夹角和第二夹角的角度组合被事先设置以使得：同一组微棱镜块的出射光线汇聚成同一个视点，不同组微棱镜块的出射光线汇聚成不同视点。这样，通过设置各个微棱镜块的倾斜面的角度来形成多个不同的视点，从而实现了在不同的视角下观看到不同的三维显示效果。
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公开(公告)号：CN112799166A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911110416.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B6/00
Abstract: 本发明公开一种导光板的制作方法，该方法包括：制备一具有多个不规则凸起的导光板模仁；提供一基材；将所述导光板模仁压印在所述基材上，在所述基材上形成具有多个不规则第二凹坑的网点区域；脱模，得到导光板。本发明还公开一种导光板，所述导光板由上述导光板的制作方法形成，包括本体、设置在所述本体同一表面的多个不规则第二凹坑，其中，所述本体侧面为入光面，与具有所述多个不规则第二凹坑的表面相对的表面为出光面。通过多个不规则凸起的导光板模仁，将所述导光板模仁压印在所述基材上，获得具有多个不规则敌人凹坑的网点区域的导光板，增加入射光线经不规则第二凹坑向出光面偏折后垂直射出的数量，从而提升了导光板的亮度。
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公开(公告)号：CN111186217B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201811359031.0
申请日：2018-11-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种具备振镜校验功能的激光打印系统，其包括控制系统及与所述控制系统信号连接的打印机台、激光打印装置、摄像装置。所述打印机台用于承载待打印的证卡；所述激光打印装置包括指示光源、扫描振镜，所述扫描振镜能够对指示光源的光路进行聚焦以形成指示光焦点光斑，并能够控制所述指示光焦点光斑按预定轨迹所述打印机台上高速扫描以形成校验图形；所述摄像装置能够获取所述校验图形的图像并将图像信息发送给所述控制系统；所述控制系统通过分析接收到的图像信息以实现对所述扫描振镜的校验。本发明只需在激光打印系统的激光打印装置内设置一指示光源即能实现对扫描振镜的自动校验，从而降低了激光打印系统的成本及系统复杂性。
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