公开(公告)号：CN102650824B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201210046200.1

申请日：2012-02-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  大喜多健三

IPC: G03F7/00 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033

Abstract: 本发明涉及像素图案的形成方法、滤色器、显示元件及着色放射线敏感性组合物。提供在使用染料、色淀颜料作为着色剂时用于使染料优异的色度特性充分地呈现的像素图案的形成方法。所述像素图案的形成方法包括以下的工序：(1)在基板上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，所述着色放射线敏感性组合物含有选自染料和色淀颜料中的至少1种；以及(2)采用紫外线LED对所述涂膜的至少一部分进行曝光的工序。

公开(公告)号：CN102736408B

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201210094140.0

申请日：2012-03-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  大喜多健三

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种像素图案的形成方法、滤色片和显示元件。本发明在于提供：使用染料或色淀颜料作为着色剂时，为了尽量显现出染料或色淀颜料优异的色度性质的像素图案的形成方法。一种像素图案的形成方法，其特征在于：包括(1)在衬底上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，该组合物包含从由染料和色淀颜料构成的群组中选出的至少一种，以及(2)用放射线照射前述涂膜的至少一部分的工序；前述放射线的分光分布在350nm～450nm的范围内具有多个峰，而且前述放射线不到350nm时的最大强度为350nm～450nm中的最大峰强度的50％以下。

公开(公告)号：CN102741985B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201180007853.2

申请日：2011-01-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  吉尾浩平 ,  山中达也 ,  金野智久

IPC: B24B13/01 ,  B24B29/02 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC classification number: B24B13/015 ,  B24B29/02 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明所涉及的化学机械研磨用水系分散体，其特征在于，含有（A）具有选自磺基及其盐中的至少1种官能团的二氧化硅粒子、和（B）酸性化合物。

公开(公告)号：CN102736408A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201210094140.0

申请日：2012-03-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  大喜多健三

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种像素图案的形成方法、滤色片和显示元件。本发明在于提供：使用染料或色淀颜料作为着色剂时，为了尽量显现出染料或色淀颜料优异的色度性质的像素图案的形成方法。一种像素图案的形成方法，其特征在于：包括(1)在衬底上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，该组合物包含从由染料和色淀颜料构成的群组中选出的至少一种，以及(2)用放射线照射前述涂膜的至少一部分的工序；前述放射线的分光分布在350nm～450nm的范围内具有多个峰，而且前述放射线不到350nm时的最大强度为350nm～450nm中的最大峰强度的50％以下。