-
公开(公告)号：CN102053497B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010531407.9
申请日：2010-10-26
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高，而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1，2-醌二叠氮化合物。[A]成分优选为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外，还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。
-
公开(公告)号：CN101937172B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010214856.0
申请日：2010-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/00 , G02F1/1333 , H01L21/768 , H01L23/532 , C08G77/04
CPC classification number: G03F7/0233 , C08G77/12 , C08G77/18 , C08G77/20 , G02F1/136286 , G03F7/0757 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、固化膜、层间绝缘膜及其形成方法、显示元件以及硅氧烷聚合物。本发明提供一种与醌二叠氮基化合物的相容性高，在ITO膜蚀刻步骤中能形成耐抗蚀剂剥离液性优良的层间绝缘膜的聚硅氧烷类正型放射线敏感性组合物。该组合物含有[A]硅氧烷聚合物和[B]醌二叠氮基化合物，上述[A]硅氧烷聚合物中的芳基相对于Si原子的含量为超过60摩尔％并在95摩尔％以下。[A]硅氧烷聚合物是至少含有下述式(1)所示的化合物的水解性硅烷化合物的水解缩合物。
-
公开(公告)号：CN101359174B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200810130172.5
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/008 , G03F7/00 , C08F220/32 , C08F4/04 , C08F220/10 , C08F212/08
Abstract: 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物，其含有[A]聚合物、和[B]1，2-二叠氮醌化合物，所述[A]聚合物具有如下基团：选自羧基和羧酸酐基的至少1种的基团、选自环氧乙基和氧杂环丁烷基的至少一种基团、和下述式(1)表示的n价基团，(式(1)中RI是亚甲基或碳原子数2～10的亚烷基或者烷基亚甲基，Y是单键、-CO-、-O-CO-*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)或者-NHCO-*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)，n是2～10的整数，X是可以具有1个或多个醚键的碳原子数2～70的n价烃基，“+”表示连接键)。
-
公开(公告)号：CN101256360B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200810082145.5
申请日：2008-03-03
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：下述共聚物、和1，2-二叠氮醌化合物，所述共聚物是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含有环氧基或氧杂环丁烷基的至少一个的不饱和化合物、(甲基)丙烯酰基吗啉和其他不饱和化合物的共聚物。本发明提供放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。
-
公开(公告)号：CN102023480A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010277210.7
申请日：2010-09-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物、作为显示元件用保护膜、绝缘膜或分隔物的固化物及其形成方法，该树脂组合物灵敏度优异，而且可以形成膜厚均匀性和对紫外线等的耐光性优异，而且具有作为一般要求性质的耐磨性、压缩性能(恢复率和柔软性)等的作为显示元件用保护膜、绝缘膜或分隔物的固化物。一种放射线敏感性树脂组合物，该放射线敏感性树脂组合物用于形成作为显示元件用的保护膜、绝缘膜或分隔物的固化物，其特征在于：包含，(A)具有羧基的聚合物，(B)聚合性不饱和化合物，(C)放射线敏感性聚合引发剂以及(D)感热色素。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101515113A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910007638.7
申请日：2009-02-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感射线性树脂组合物，其具有高的射线敏感度，并具有在显影工序中即使超出最佳显影时间也能形成良好图案形状的显影余量，能够容易地形成密合性优良的图案状薄膜，适用于形成层间绝缘膜或微透镜。该感射线性树脂组合物包含具有聚合性不饱和键的聚硅氧烷和1，2－醌二叠氮化合物。
-
公开(公告)号：CN100474062C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200510083519.1
申请日：2005-07-08
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 花村政晓
IPC: G02F1/1335
Abstract: 一种感放射线性树脂组合物，其特征是含有(A)聚合性混合物的碱可溶性聚合物，其包含(a)具有酸性官能基的聚合性不饱和化合物、(b)具有脂环式烃基且不具有酸性官能基的聚合性不饱和化合物及(c)其他的聚合性不饱和化合物，上述(a)、(b)和(c)成分的含量基于其总量分别为10～50重量%、20～60重量%和5～40重量%，(B)聚合性不饱和化合物、(C)光聚合引发剂以及(D)热聚合性化合物。该组合物用于形成微透镜。
-
公开(公告)号：CN101546127B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200910127063.2
申请日：2009-03-23
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的制造方法。该感射线性树脂组合物具有高的感射线敏感度和优良的显影裕度，并且能够容易地形成与底层的粘附性也优良的图案状薄膜，适用于形成层间绝缘膜和微透镜。上述感射线性树脂组合物包括：含有由不饱和羧酸和不饱和羧酸酐构成的群组中选出的至少一种和由具有环氧乙基的不饱和化合物和具有氧杂环丁烷基的不饱和化合物构成的群组中选出的至少一种的不饱和混合物的共聚物、1，2-醌二叠氮化合物、以及具有碳原子数为6～15的芳基的倍半硅氧烷。
-
公开(公告)号：CN101324755B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200810125444.2
申请日：2008-06-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的感放射线性树脂组合物含有[A]具有选自环氧乙烷基及氧杂环丁烷基中的至少1种基团、和能与环氧乙烷基或氧杂环丁烷基加成反应的官能团的聚硅氧烷；及[B]1，2-重氮醌化合物。上述本发明的感放射线性树脂组合物即使在不足250℃的烧成条件下，用于形成层间绝缘膜时，也能够形成高耐热性、高耐溶剂性、高透射率、低介电常数的层间绝缘膜，另外用于形成微透镜时，能够形成具有高透射率和良好的熔化形状的微透镜。
-
公开(公告)号：CN101226329B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810003519.X
申请日：2008-01-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：(a1)、(a2)和(a3)的共聚物[A]、1，2-二叠氮醌化合物[B]、以及含有通过热与[A]成分进行交联反应的官能团的硅氧烷低聚物[C]，所述(a1)：不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，所述(a2)：含有环氧基和/或氧杂环丁烷基的不饱和化合物，和所述(a3)：(a1)成分和(a2)成分以外的不饱和化合物。一种放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
42
records
(took 0.022 seconds)
