公开(公告)号：CN1886526A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN200480035416.1

申请日：2004-09-29

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·蒋 ,  J·-C·赵 ,  G·冯

IPC: C22C19/05

CPC classification number: C22C19/055 ,  C22C19/056 ,  C22C19/058

Abstract: 本文公开了一种制造制品的方法，包括浇铸合金到模具内，其中该合金包括约1.5wt％至约4.5wt％的铝；约1.5wt％至约4.5wt％的钛；最高约3wt％的铌；约14wt％至约28wt％的铬；约10wt％至23wt％的钴；约1wt％至约3wt％的钨、铼、钌、钼或它们的组合；约0.02wt％至约0.15wt％的碳；约0.001wt％至约0.025wt％的硼；最高约0.2wt％的锆、铪或其组合；和凝固该铸件。

公开(公告)号：CN1737187A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200510062930.0

申请日：2005-03-30

Applicant: 通用电气公司

Inventor： D·M·利普金 ,  J·-C·赵

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  C23C14/02 ,  C23C14/58 ,  C23C14/16 ,  C22C21/00

CPC classification number: C23C14/165 ,  C22C21/00 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/345 ,  C23C14/5806 ,  Y02T50/67 ,  Y10T428/1275

Abstract: 公开了一种在高温、氧化环境下保护制品的方法，以及适于在此方法中使用的合金组合物和离子等离子体沉积靶(108)，以及在此环境中使用的制品。此方法包括：提供一种基材(110)，提供一种离子等离子体沉积靶(108)，以及在离子等离子体沉积方法中使用靶(108)将保护涂层沉积至基材(110)上。靶(108)包括约2至25原子％的铬，余量包括铝。