一种基于抽样的CCD超高速图像采集方法

    公开(公告)号:CN103369267B

    公开(公告)日:2017-02-08

    申请号:CN201310247696.3

    申请日:2013-06-20

    Abstract: 本发明一种基于抽样的CCD超高速图像采集方法,包括1】行间转移型CCD的光敏区曝光、2】对CCD光敏区进行抽样,进行抽样的像素行之间至少相隔N个不进行抽样的像素行,将抽样的像素行的感应电荷转移到垂直寄存器中,其中N≥1;3】垂直寄存器中的感应电荷向下移动一行;4】CCD光敏区进行下一次曝光,对光敏区上一次进行抽样的像素行重复步骤2】和3】,直至垂直寄存器中存储N行感应电荷,停止曝光;5】将垂直寄存器中的感应电荷作为一幅图像通过水平寄存器正常读出;6】通过软件将该幅图像还原出不同曝光时刻的图像的步骤,将多次抽样的序列图像先暂存在CCD的垂直寄存器上,最后再一起通过水平寄存器慢速读出。它可以在空间分辨率损失较小的情况下,使帧频率得到大幅度提高。

    基于闪光X光机的超快X射线衍射成像方法及系统

    公开(公告)号:CN105758880A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610221465.9

    申请日:2016-04-11

    CPC classification number: G01N23/205

    Abstract: 本发明提供一种基于闪光X光机的超快X射线衍射成像方法及系统,包括闪光X光机,闪光X光机包括闪光X射线二极管,还包括衍射调节子系统、探测器子系统及辅助调节子系统;本发明方法采用新的衍射光路调节方法,即将直流X光机、衍射调节系统及计数型探测器组装,确定闪光X射线二极管管阳极特征线能量的精确衍射角后再使用面阵探测器。该方法可解决闪光X射线衍射光路调节困难的问题,同时确定的精确衍射角可提高衍射图像的信噪比,大大降低了系统的复杂度。

    基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法

    公开(公告)号:CN108508052B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN201810597362.1

    申请日:2018-06-11

    Abstract: 本发明涉及X射线荧光分析技术领域,针对现有X射线荧光测量系统及方法的测量结果易受仪器性能波动的影响,以及不适用于对以金属元素为主要成分的薄层质量厚度进行测量的不足,提供基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法,其中测量系统包括X射线管、准直管、探测器、基底和控制终端,准直管的输入端与X射线管的出射口相连,输出端设置钨针孔;控制终端分别与X射线管和探测器电连接;基底表面贴放含参考元素的参考层,参考层的表面用于放置标准样品层或待测样品层;X射线管用于发射X射线,基底位于X射线的光路上;X射线通过准直管和钨针孔后垂直照射参考层;探测器用于接收X射线激发的荧光。

    一种时间分辨X射线衍射测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114088755B

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202111294002.2

    申请日:2021-11-03

    Abstract: 本发明涉及一种应用于冲击动力学微观响应实验诊断X射线衍射测量装置,具体涉及一种时间分辨X射线衍射测量装置及方法;解决现有脉冲X射线衍射装置对更短时间尺度冲击动力学响应过程,诊断时间分辨能力不足的技术问题。该时间分辨X射线衍射测量装置基于多微带X射线像增强器,包括脉冲X射线源、X射线调制单元、测量靶室、晶体支架、晶体样品、冲击加载窗口、压电传感器和时间分辨X射线成像探测器;通过冲击加载窗口触发晶体样品产生冲击波触发压电传感器,压电传感器触发脉冲X射线源出射X射线,X射线经过X射线调制单元,进入测量靶室入射至晶体样品,晶体样品衍射光入射至多微带X射线像增强器,经荧光屏产生光信号被图像记录设备记录。

    基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法

    公开(公告)号:CN108508052A

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201810597362.1

    申请日:2018-06-11

    Abstract: 本发明涉及X射线荧光分析技术领域,针对现有X射线荧光测量系统及方法的测量结果易受仪器性能波动的影响,以及不适用于对以金属元素为主要成分的薄层质量厚度进行测量的不足,提供基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法,其中测量系统包括X射线管、准直管、探测器、基底和控制终端,准直管的输入端与X射线管的出射口相连,输出端设置钨针孔;控制终端分别与X射线管和探测器电连接;基底表面贴放含参考元素的参考层,参考层的表面用于放置标准样品层或待测样品层;X射线管用于发射X射线,基底位于X射线的光路上;X射线通过准直管和钨针孔后垂直照射参考层;探测器用于接收X射线激发的荧光。

    一种基于平晶衍射成像的X射线能谱测量方法

    公开(公告)号:CN105759304B

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201610255170.3

    申请日:2016-04-22

    Abstract: 本发明涉及一种基于平晶衍射成像的X射线能谱测量方法,以解决现有方法能谱分辨率差、测量效率低的缺点。本发明适用于100keV以下、多能量X射线连续能谱的测量。该方法包括步骤:1.估计待测X射线能谱范围,确定衍射晶体参数和测量系统参数;2.对衍射角度范围中所有衍射角度分别进行成像,记录衍射图像和透射图像;3.对步骤1中确定的晶体,利用直流X射线源和能量分辨探测器,测量待测能谱范围内各能量X射线对衍射晶体的摇摆曲线,计算积分衍射系数:4.根据步骤2中的透射图像,计算步骤2中衍射图像各像素对应的衍射能量,得到X射线衍射能谱;再结合步骤3中各待测能量的积分衍射系数计算入射X射线能谱。

    一种基于能量分辨探测器的晶体摇摆曲线测量方法

    公开(公告)号:CN105866151B

    公开(公告)日:2018-07-24

    申请号:CN201610256792.8

    申请日:2016-04-22

    Abstract: 本发明涉及一种基于能量分辨探测器的晶体摇摆曲线测量方法,包括步骤:1.根据测量所用X射线能量范围{E}选取X射线管阳极靶材料和电压电流参数;2.确定布拉格衍射角范围{θB}、晶体旋转角度范围{θT}和旋转步进角度;3.测量{θT}内每个旋转角度的晶体衍射能谱;4.修正晶体衍射能谱中散射因素的影响;5.提取{E}中能量Ej的X射线在θTi=θBi时单位时间的衍射强度,得到Ej的强度变化曲线;6.对强度变化曲线进行衍射峰拟合;7.对拟合后的衍射峰求一阶导数,选取一阶导数斜率不小于0的部分,对该部分衍射峰取绝对值,即分别为摇摆曲线的左支与右支,拼接得到Ej的摇摆曲线;8.重复步骤5~7直至遍历{E},得到{E}中所有能量的X射线对于晶体某个晶面摇摆曲线。

    一种基于滤光的成像系统动态范围扩展方法

    公开(公告)号:CN107734231A

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201711084301.7

    申请日:2017-11-07

    Abstract: 本发明提出一种基于滤光的成像系统动态范围扩展方法,尤其适用于超快高强度发光过程的大动态图像获取,系统结构简明,实现成本低。该方法采用的成像系统中图像传感器为彩色图像传感器,或者采用覆盖有多色镀膜或多色透镜的灰度图像传感器;该方法包括以下步骤:利用窄带滤波片的光谱选择功能,将成像场景的宽谱可见光图像选择过滤成近似单色光图像;通过多色滤光获取到衰减系数不同的多幅子图像,其中衰减系数较小的子图像能够获取亮度较低的场景图像,衰减系数较大的子图像能够获取亮度较高的场景图像;通过子图像插值计算获得高分辨率的高动态范围图像。

    一种基于平晶衍射成像的X射线能谱测量方法

    公开(公告)号:CN105759304A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610255170.3

    申请日:2016-04-22

    CPC classification number: G01T1/366

    Abstract: 本发明涉及一种基于平晶衍射成像的X射线能谱测量方法,以解决现有方法能谱分辨率差、测量效率低的缺点。本发明适用于100keV以下、多能量X射线连续能谱的测量。该方法包括步骤:1.估计待测X射线能谱范围,确定衍射晶体参数和测量系统参数;2.对衍射角度范围中所有衍射角度分别进行成像,记录衍射图像和透射图像;3.对步骤1中确定的晶体,利用直流X射线源和能量分辨探测器,测量待测能谱范围内各能量X射线对衍射晶体的摇摆曲线,计算积分衍射系数:4.根据步骤2中的透射图像,计算步骤2中衍射图像各像素对应的衍射能量,得到X射线衍射能谱;再结合步骤3中各待测能量的积分衍射系数计算入射X射线能谱。

    一种针对指定能谱形态的X射线能谱调制方法

    公开(公告)号:CN103747605A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201310746108.0

    申请日:2013-12-30

    Abstract: 本发明涉及一种针对指定能谱形态的X射线能谱调制方法,根据指定调制的X射线目标能谱形态,选择调制采用的射线源参数和滤波片参数,生成子谱集合,再根据调制要求选取合适的一致性评价参数,并设定评价阈值;再从子谱集合中任选k个子谱,根据最小二乘原理计算调制能谱,得到各子谱的调制系数{N(x)};再根据调制系数和对应子谱组合生成调制能谱,计算调制能谱的一致性参数;最后选择最优的调制能谱。本发明旨在解决复杂能谱形态的X射线调制问题,适用于X射线源参数可调,输出能谱已知或可通过其他测量计算方法获得的应用场合。

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