公开(公告)号：CN204353985U

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201420521181.8

申请日：2014-09-11

Applicant: 衢州学院

Inventor： 周兆忠 ,  冯凯萍 ,  邓乾发 ,  吕冰海 ,  袁巨龙

IPC: B24B55/02

Abstract: 本实用新型公开了一种基于四连杆机构的可溶性固着软质磨料抛光装置，包括抛光盘、转动电机、四连杆摆动装置、冷却液喷头、冷却液喷洒装置，转动电机与冷却液喷洒装置安装在抛光盘同一侧方，转动电机通过联轴器与四连杆摆动装置的一端连接，四连杆摆动装置的另一端通过深沟球轴承与冷却液喷洒装置连接，冷却液喷头连接在四连杆摆动装置的主运动端，四连杆摆动装置带动冷却液喷头在抛光盘上方摆动，并且摆动平面平行于抛光盘。本实用新型结构简单紧凑，生产成本低，利用四连杆机构改变抛光液喷洒持续时间，保证了抛光液在中心地带喷洒时间久而在外围地带喷洒时间短，从而使得抛光液在抛光盘上的分布趋于均匀保证抛光薄膜磨耗均匀，保证抛光质量。

公开(公告)号：CN204736036U

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201520388866.4

申请日：2015-06-09

Applicant: 衢州学院

Inventor： 冯凯萍 ,  周兆忠 ,  许庆华 ,  邓乾发

IPC: B24B5/36

Abstract: 本实用新型涉及一种用于精密圆柱滚子外圆面研磨的加工装置，属于精密研磨抛光领域。一种用于精密圆柱滚子外圆面研磨的加工装置，包括气缸、支撑架、磨具底板、磨具、驱动辊、底座，两个驱动辊与加工装置对称中心平面平行，一个驱动辊左边端在铅垂面内上翘与水平面相交成1~5°，另一个驱动辊右边端在铅垂面内下翘与水平面相交成1~5°，同时两个驱动辊表面涂覆有阻尼涂层增加磨擦系数，两个驱动辊产生的切向力使圆柱滚子绕中心轴旋转，产生的轴向力使圆柱滚子沿中心轴贯穿进给，磨具固定在磨具底板上，通过气缸施加加工压力，气缸安装在支撑架上，支撑架和驱动辊安装在底座上。加工时将圆柱滚子放在驱动辊一端即可进行加工，该方法简单可靠，加工精度高，表面质量好。

公开(公告)号：CN204736043U

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201520388870.0

申请日：2015-06-09

Applicant: 衢州学院

Inventor： 冯凯萍 ,  周兆忠 ,  许庆华 ,  邓乾发

IPC: B24B11/04 ,  B24B41/00

Abstract: 本实用新型公开了一种螺杆驱动式精密球体研磨装置，属于精密研磨抛光领域。包括气缸，支撑架，磨具底板，磨具，螺杆，底座，磨具固定在磨具底板上，磨具通过气缸施加加工压力，气缸与支撑架相连，支撑架和螺杆固定在底座上，加工时，球体放在两根螺杆槽中间，螺杆同向旋转时，带动球体前进。同时球体作自旋运动，实现球体表面材料均匀去除。该方法简单可靠，加工精度高，球体表面质量好。

公开(公告)号：CN204160306U

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201420520659.5

申请日：2014-09-11

Applicant: 衢州学院

Inventor： 周兆忠 ,  冯凯萍 ,  邓乾发 ,  吕冰海 ,  袁巨龙

IPC: B24B37/015 ,  B24B37/10

Abstract: 本实用新型公开了一种基于半导体制冷片的可溶性固着软质磨料抛光装置，抛光装置主体为表层涂有微细磨粒的抛光盘，抛光盘背面装有半导体制冷片，抛光盘底部设有至少三圈由半导体制冷片环形排列组成的温控带；抛光盘上方还设有装有激光表面粗糙度测量仪的悬臂导轨，激光表面粗糙度测量仪用于测量抛光盘表面粗糙度从而对微细磨粒分布情况进行分析，进而通过控制每圈温控带的温度以调整抛光盘表面平整度。本实用新型利用激光表面粗糙度测量仪测得是数据准确，保证磨粒层更加平整，从而保证加工精度更高；利用半导体制冷片控制温度，经济实惠，控制方便；通过改变温度改变微细磨粒的溶解度，从而使得整个装置结构简单且便于控制。