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公开(公告)号：CN105489784B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
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公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN106803872A
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201710120595.8
申请日：2017-03-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H04N5/2254 , H04M1/0264 , H04M1/72555 , H04N9/04
Abstract: 一种相机镜头，包括三组成像组件和图像处理器，每一组成像组件包括镜头和传感器，镜头用于在传感器的表面成像形成单色图；图像处理器分别与各成像组件的传感器连接，图像处理器用于接收三幅单色图，并将三幅单色图合成一副彩色图。本发明的相机镜头能形成三幅单色图，并能合成不存在色差的彩色图。本发明还涉及一种手机。
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公开(公告)号：CN106681106A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710206374.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70383 , G03F7/70408 , G03F7/7045
Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。
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公开(公告)号：CN104981356B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103513316B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201310456357.6
申请日：2013-09-29
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种选择吸收滤光结构，包括：基底，位于基底上的介质微纳单元，位于介质微纳单元上的金属层，金属层全覆盖在介质微纳单元上，即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层，所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率，且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单，易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN106501938A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201611047192.7
申请日：2016-11-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B27/0172 , G02B2027/0174 , G03H1/2205
Abstract: 本发明公开了一种头戴式增强现实三维显示装置，利用具有能实现汇聚光场视角放大功能即纳米透镜功能的纳米光栅结构，实现三维虚拟信息的视角放大，并在人眼前投射，通过透明光场镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合，由于视角得以放大，使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象，使得体验更加真实，同时基于全息原理，可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合，从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。
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公开(公告)号：CN106371222A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201611087950.8
申请日：2016-11-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B27/2214 , G02B27/0172
Abstract: 本发明公开了一种纳米透镜波导镜片，包括纳米透镜波导镜片单元，所述纳米透镜波导镜片包括一片纳米透镜波导镜片单元，或由至少两片纳米透镜波导镜片单元叠加组成，所述纳米透镜波导镜片单元包括：波导；位于波导上表面或下表面的具有透明光学成像和波导折弯功能的功能性区域；所述功能性区域包括用于将图像光信息耦合进入波导的耦入功能性区域，和用于将经耦入功能性区域及波导传导过来的图像光信息投射到纳米透镜波导镜片上方空间中的出射功能性区域。本纳米透镜波导镜片可以大大降低构建三维显示装置时的厚度及体积，为多景深三维显示装置的简单实现提供了基础支持。本发明同时公开了利用该纳米透镜波导镜片构建的多景深三维显示装置。
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公开(公告)号：CN106371218A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201610970307.3
申请日：2016-10-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置，包括图像生成装置，和对应眼睛的可视镜片，所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜，从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片，所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配，在人眼前方投射出会聚波面，形成虚拟景象；或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加，得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像，形成虚拟景象，其和现实景物在人眼中成像的原理一致，因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。
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公开(公告)号：CN106061218A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412201.1
申请日：2016-06-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , H05K9/0086
Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，其包括以下步骤：1)在导电基板上涂布光刻胶，然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构；2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层，形成金属图形结构；3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内，形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点，可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。
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