毛发变形处理剂
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106999379B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201580066081.8

    申请日:2015-11-17

    Abstract: 本发明的毛发变形处理剂含有成分(A)~(C),且成分(B)的含量相对于成分(A)的含量的摩尔比(B)/(A)为0.01以上且5以下,(A)乙醛酸或其水合物或盐,(B)式(1)所表示的化合物,R1表示H或甲基,X表示H、OH或甲氧基,Y表示H、O、OH或甲氧基,Z表示H、烷基等,Rx表示H、O、甲氧基等,Ry表示H、OH、芳香族烃基等,虚线表示可以是双键,(C)水。

    毛发变形处理剂
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106999381A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580066207.1

    申请日:2015-11-17

    CPC classification number: A61K8/365 A61Q5/04

    Abstract: 本发明涉及一种毛发变形处理剂,其含有以下的成分(A)及(B)。(A)式(1)所表示的化合物、(B)水。[式(1)中,R1、R2及R3表示H或式(2)所表示的基团,其中0~2个为H。式(2)中,R表示H或羧基,A1及A2表示H、OH或式(3)所表示的基团。式(3)中,X、Y及X中的任一个表示与式(2)中的C键结的位置,剩余的表示H或‑CH(OH)COOH。]

    纤维处理剂
    14.
    发明公开
    纤维处理剂 审中-实审

    公开(公告)号:CN119213180A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202380041250.7

    申请日:2023-05-15

    Inventor: 古川淳一

    Abstract: 本发明涉及一种纤维处理剂,其改善作为天然来源纤维的问题点的耐水性、耐热性,赋予热形状记忆能力,并且也提高伸缩性(柔韧度)、表面的触感。本发明的纤维处理剂为由单一组合物构成的单剂式纤维处理剂或由多种组合物构成的多剂式纤维处理剂,在其全部组成中含有以下的成分(A)~(C)。(A):具有1个以上的乙烯基或亚乙烯基、和配位性官能团的芳香族化合物;(B):自由基引发剂;(C):水。

    人发纤维处理剂
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114341423B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202080059137.8

    申请日:2020-08-04

    Inventor: 古川淳一

    Abstract: 本发明提供一种人发纤维处理剂,其用于对从人的头部分离并且人工固定长度方向的一部分的人发纤维进行处理,其组成中含有以下的成分(A)~(C),成分(A)的含量为1质量%以上。(A):甲醛或其水合物;(B):通式(1)所示的三聚氰胺衍生物〔R1~R3表示氢原子、羟基甲基氨基、羟基、卤原子、苯基、碳原子数1以上6以下的直链或支链的烷基或烯基、或者碳原子数1以上6以下的直链或支链的烷氧基或烯氧基。〕;(C):水。#imgabs0#

    人发纤维处理剂
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111757683A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201980013163.4

    申请日:2019-02-12

    Inventor: 古川淳一

    Abstract: 本发明的人发纤维处理剂是用于对两端为自由端的人发纤维进行处理的由单一组合物或多个组合物构成的人发纤维处理剂,其组成中含有以下的成分(A)~(C)。(A):选自甲醛等中的至少1种的甲醛衍生物;(B):酚化合物,其在间位的至少1个位置具有供电子基团,且邻位和对位中的至少一个位置为氢原子(其中,间位的供电子基团可以与相邻的碳原子一起形成苯环,该苯环上可以取代有羟基),(C):水。

    毛发变形处理剂
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106999379A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580066081.8

    申请日:2015-11-17

    Abstract: 本发明的毛发变形处理剂含有成分(A)~(C),且成分(B)的含量相对于成分(A)的含量的摩尔比(B)/(A)为0.01以上且5以下,(A)乙醛酸或其水合物或盐,(B)式(1)所表示的化合物,R1表示H或甲基,X表示H、OH或甲氧基,Y表示H、O、OH或甲氧基,Z表示H、烷基等,Rx表示H、O、甲氧基等,Ry表示H、OH、芳香族烃基等,虚线表示可以是双键,(C)水。

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