公开(公告)号：CN1721885A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510078346.4

申请日：2005-02-04

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 木曾弘之 ,  工藤孝夫 ,  小田桐广和 ,  长浜勉

IPC: G02B5/02 ,  G03B21/56

Abstract: 提供了一种生产在复制光散射片过程中使用的模具的方法。该方法包括步骤：实施喷砂，将研磨材料从喷枪中喷射到模具基质材料的表面上，以在模具基质材料的表面上形成不平坦，其中研磨材料是以小于90°的喷射角度喷射到模具基质材料的表面上。

公开(公告)号：CN1216738C

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN02803058.3

申请日：2002-09-03

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 工藤孝夫 ,  松村伸一 ,  浅冈聪子

IPC: B32B27/00 ,  B42D15/10

CPC classification number: B32B27/08 ,  B32B27/00 ,  B42D25/00 ,  B42D25/369

Abstract: 一种进行浮凸处理的塑料卡(10)，包括芯材料(12)和包覆材料(13)，芯材料(12)的断裂伸度为25%或者更低，包覆材料(13)的断裂伸度为130%或者更高。芯材料(12)的厚度与占据塑料卡整体部分的包覆材料(13)的厚度之比被设置为20至53∶10。另外，芯材料(12)的断裂伸度为50%或者更低，而包覆材料(13)的抗拉强度为100MPa。芯材料(12)的厚度与占据塑料卡整体部分的包覆材料(13)的厚度之比被设置为41至90∶10。调节芯材料(12)和包覆材料(13)的断裂伸度或者包覆材料(13)的抗拉强度以及芯材料(12)的厚度与包覆材料(13)的厚度之比，以使塑料卡具有良好的浮凸特性，而且几乎不因为重复弯曲疲劳而产生断裂。