公开(公告)号：CN101567199B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200910134490.3

申请日：2009-04-21

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 高桥谦作 ,  中野淳 ,  增原慎 ,  坂本哲洋 ,  高川繁树

IPC: G11B7/26 ,  G11B7/24

CPC classification number: G11B7/26

Abstract: 本发明公开了光盘制造方法、原盘制造方法和光盘，其中，该光盘制造方法包括以下步骤：通过在基板上形成具有记录激光波长的17％以下的厚度的蓄热层并形成无机抗蚀层来制造预曝光原盘；通过执行记录激光照射，对原盘的无机抗蚀层执行具有凹坑和间隙的记录信号图样的曝光；通过在曝光之后执行显影处理来制造具有含凹坑和间隙的凹坑阵列形状的原盘；通过使用具有凹坑阵列形状的原盘来制造被转印凹坑阵列形状的压模；以及制造具有预定层结构的光盘，预定层结构包括被转印压模的凹坑阵列形状并在凹坑阵列形状上形成银或银合金反射膜的记录层。通过本发明，提高了高记录密度光盘的生产率。

公开(公告)号：CN101714371A

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200910179414.4

申请日：2009-10-09

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 增原慎 ,  中冲有克 ,  山崎刚 ,  行本智美

IPC: G11B7/26 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C45/263 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0017 ,  G11B7/1374 ,  G11B7/1387 ,  G11B7/261 ,  G11B7/263 ,  G11B2007/13727

Abstract: 本发明涉及制造母盘的方法以及制造光盘的方法。一种制造母盘的方法包括以下步骤：在母盘形成衬底上形成无机抗蚀剂层，在无机抗蚀剂层的表面形成含有高折射率材料的保护薄膜以形成无机抗蚀剂母盘，其中高折射率材料的折射率n满足n≥曝光光学系统的NA，并且高折射率材料混合在光透过材料中；使用曝光光学系统从保护薄膜上方在无机抗蚀剂母盘上执行NA＞1的近场曝光；将保护薄膜从经受了曝光的无机抗蚀剂母盘上分离；通过对分离了保护薄膜的无机抗蚀剂母盘的显影，形成包括曝光部分和未曝光部分的突起/凹陷图案。

公开(公告)号：CN1728251A

公开(公告)日：2006-02-01

申请号：CN200510054529.2

申请日：2005-03-09

Applicant: 索尼株式会社 ,  新力光碟科技股份有限公司

Inventor： 增原慎 ,  岸信介

IPC: G11B7/24 ,  G11B23/04

CPC classification number: G11B23/0308

Abstract: 通过粘接至少两盘形记录板形成大容量记录介质，以提供适合于吸收在记录介质的高度方向的任何制造误差的结构。

公开(公告)号：CN1282954A

公开(公告)日：2001-02-07

申请号：CN00122554.5

申请日：2000-08-03

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 增原慎 ,  安芸祐一 ,  山本健二

IPC: G11B7/00 ,  G11B7/26 ,  G11B7/135

CPC classification number: G11B7/126 ,  G11B7/1378 ,  G11B7/13925 ,  G11B7/261

Abstract: 本发明涉及光信息媒体的制造方法和光信息媒体的制造装置,并可用于例如光盘之类的装置,并可以把来自照射半导体激光器的激光束以高密度聚焦到原始盘上。本发明用色差光学系统补偿物镜的色差或通过调整半导体激光器的温度补偿在波长中的起伏。