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公开(公告)号:CN103011618A
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN201210396363.2
申请日:2009-07-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C03C17/3435 , C03C17/42 , C03C2217/734 , C03C2217/78 , C23C14/0652 , C23C14/10 , C23C14/12 , G04B39/00 , Y10T428/24942 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种具有抗反射功能、而且硬度足够高并确保耐损伤性的透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法。本发明的透光性部件(1)包括具有透光性的基材(11),在基材(11)的表面上形成有抗反射层(12),该抗反射层具有交替层积有由氮化硅构成的高折射率层(12A、12C)和由二氧化硅构成的低折射率层(12B、12D)的结构,从抗反射层(12)的表面到150nm深度的范围中的氮化硅的含量为30体积%~50体积%。
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公开(公告)号:CN101639663A
公开(公告)日:2010-02-03
申请号:CN200910161801.5
申请日:2009-07-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C03C17/3435 , C03C17/42 , C03C2217/734 , C03C2217/78 , C23C14/0652 , C23C14/10 , C23C14/12 , G04B39/00 , Y10T428/24942 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种具有抗反射功能、而且硬度足够高并确保耐损伤性的透光性部件、钟表、以及透光性部件的制造方法。本发明的透光性部件(1)包括具有透光性的基材(11),在基材(11)的表面上形成有抗反射层(12),该抗反射层具有交替层积有由氮化硅构成的高折射率层(12A、12C)和由二氧化硅构成的低折射率层(12B、12D)的结构,从抗反射层(12)的表面到150nm深度的范围中的氮化硅的含量为30体积%~50体积%。
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