公开(公告)号：CN114630089A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202111493064.6

申请日：2021-12-08

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 黑田一平 ,  宍户洋一

IPC: H04N9/31 ,  G03B21/14 ,  G03B21/26

Abstract: 投射方法、投射系统以及记录介质，能够使用与投影仪分体且未固定的拍摄装置，与投影仪和被投射物的位置关系变化对应地校正投射图像。信息处理装置(20)确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第1对应关系。在投影仪与被投射物的位置关系发生了变化时，确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第2对应关系。信息处理装置基于根据第1对应关系将发生位置关系变化前的由拍摄装置(220)拍摄的被投射物(SC)的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第3图像中的第1特征点、和根据第2对应关系将变化后的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第4图像中的与第1特征点对应的第2特征点，生成校正信息，并使用该校正信息使投影仪投射校正后的投射图像。

公开(公告)号：CN108508682A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810153737.5

申请日：2018-02-22

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宍户洋一

IPC: G03B21/00 ,  G03B21/20

Abstract: 本发明提供投影仪，能够获得较高的光利用效率。该投影仪具有：固体光源；衍射元件，其动态地控制来自固体光源的光的衍射；光调制装置，其根据图像信息对从衍射元件射出的衍射光进行调制，生成图像光；以及投影光学系统，其投射图像光。

公开(公告)号：CN104950559B

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：CN201510130372.0

申请日：2015-03-24

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宍户洋一 ,  远藤隆史

IPC: G03B21/20 ,  G03B21/14

CPC classification number: G03B21/2013 ,  G03B21/006 ,  G03B21/202 ,  G03B21/2053 ,  G03B21/2066 ,  G03B21/208 ,  H04N9/315 ,  H04N9/3152 ,  H04N9/3155 ,  H04N9/3164

Abstract: 本发明提供一种投影仪，该投影仪具备：多个光源；光调制装置，其基于输入信息对从多个光源射出的光进行调制；投射光学系统，其投射被光调制装置调制后的光；导光光学系统，其使从多个光源射出的多个光入射至各个不同的区域，并将入射的多个光的各个导向光调制装置；点亮检测部，其检测多个光源的点亮状态；以及控制部，其根据由点亮检测部检测出的多个光源的点亮状态，使用基于光调制装置的视角特性的修正信息进行输入信息的修正。