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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100375220C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN03821509.8
申请日：2003-09-01
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J61/70 , H01J61/125
Abstract: 本发明公开了一种低压气体放电灯，它设有气体放电容器和电极以及用于产生和维持低压气体放电的装置，所述气体放电容器含有作为缓冲气体的惰性气体，其中该灯含有至少一种锡卤化物。
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公开(公告)号：CN1717773A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN03823452.1
申请日：2003-09-23
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J61/368 , H01J9/326 , H01J61/86
Abstract: 本发明涉及一种高压气体放电灯，包括至少一个介于玻璃态材料与钼之间的气密熔凝冲压密封，其中熔凝冲压密封中的钼至少部分暴露在氧化环境中，并且至少暴露于氧化环境中的那部分钼覆盖了一层涂层，所述涂层包括至少一种选自Fe2O3，Ta2O5，Nb2O5，Al2O3，SiO2，TiO2，ZrO2，HfO2的氧化物，和/或一种选自TiN，ZrN，HfN，AlN，BN的氮化物，和/或一种选自TiC，ZrC，HfC，VC，NbC，TaC，B4C的碳化物。
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公开(公告)号：CN100375223C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN03823452.1
申请日：2003-09-23
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J61/368 , H01J9/326 , H01J61/86
Abstract: 本发明涉及一种高压气体放电灯，包括至少一个介于玻璃态材料与钼之间的气密熔凝冲压密封，其中熔凝冲压密封中的钼至少部分暴露在氧化环境中，并且至少暴露于氧化环境中的那部分钼覆盖了一层涂层，所述涂层包括至少一种选自Fe2O3，Ta2O5，Nb2O5，Al2O3，SiO2，TiO2，ZrO2，HfO2的氧化物，和/或一种选自TiN，ZrN，HfN，AlN，BN的氮化物，和/或一种选自TiC，ZrC，HfC，VC，NbC，TaC，B4C的碳化物。
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公开(公告)号：CN1717771A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200380104265.6
申请日：2003-11-21
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J61/20 , H01J61/125 , H01J61/822
Abstract: 本发明涉及具有放电容器的高压放电灯，放电容器具有的填充物包括：稀有气体(例如氩)、汞、和氯，其中汞和氯的填充量[Hg]和[Cl]满足下面的条件：[Hg]·[Cl]≥200(μmole/cm3)2，[Cl]≤10μmole/cm3。条件[Hg]·[Cl]≥200(μmole/cm3)2获得放电中足够的HgCl蒸汽压来，用于产生这种分子的B2∑+－X2∑+频带系统的显著辐射成分。条件[Cl]≤10μmole/cm3用来限制氯填充物的化学侵占性，特别是限制对壁和电极的腐蚀，从而获得更长的灯寿命。增加氯粘结金属，特别是锗，导致进一步改善辐射和灯的寿命性能。
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公开(公告)号：CN1682347A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN03821509.8
申请日：2003-09-01
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J61/70 , H01J61/125
Abstract: 本发明公开了一种低压气体放电灯，它设有气体放电容器和电极以及用于产生和维持低压气体放电的装置，所述气体放电容器含有作为缓冲气体的惰性气体，其中该灯含有至少一种锡卤化物。
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