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公开(公告)号:CN116654918A
公开(公告)日:2023-08-29
申请号:CN202310473706.9
申请日:2023-04-25
Applicant: 电子科技大学(深圳)高等研究院
IPC: C01B32/194 , G09F9/30
Abstract: 本发明公开的一种构建大面积石墨烯薄膜的方法,包括具体步骤为:步骤1、应用保护层将制备层包裹于其中;步骤2、辊压过程中,过程中的辊压压力为3‑7N,速度为0.1‑0.4m/min,温度为160‑180℃;步骤3、所述剥离速度为0.4‑0.6cm/s。一种构建大面积石墨烯薄膜的方法应用其制备一种石墨烯柔性电子屏制作的健身镜所述健身镜有展开和折叠两种状态,展开状态下为矩形结构。本发明采用辊压技术结合特定的工艺参数,成功实现了大面积石墨烯膜的制备。并且基于这些方法进一步实现了制备面积为Acm2的石墨烯柔性电子屏。最后本发明将这项技术应用在健身镜上,解决了冬天容易起雾的问题。
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公开(公告)号:CN104063544A
公开(公告)日:2014-09-24
申请号:CN201410293567.2
申请日:2014-06-25
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明涉及近场效应误差分析方法,属于射频仿真领域。国内现有的三元阵天线近场效应误差分析等工作均是基于解析方法,尽管简单,但计算结果不精确、所适用的频段范围有限等,因此为了满足射频仿真中的高频率、高精度要求。本发明从三阵元的三个阵元出发,针对实际应用,发展计算电磁学数值方法同时结合电磁仿真软件模拟三元阵天线的近场效应,生成方位角和俯仰角的近场效应误差修正表格,通过近场效应误差修正得到正确的目标复现位置。本发明方法简单易行,满足了射频仿真的高频率、高精度要求。
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