公开(公告)号：CN1322782A

公开(公告)日：2001-11-21

申请号：CN01120723.X

申请日：2001-05-10

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 户塚利明 ,  柴野富四 ,  谷胁富士雄

IPC: C09D7/00

CPC classification number: C09J7/38 ,  C09J2467/00 ,  C09J2475/00 ,  Y10T428/2826 ,  Y10T428/2852 ,  Y10T428/2861 ,  Y10T428/2896

Abstract: 提供了一种在胶带基材表面上具有粘结剂层的自粘结胶带,该粘结剂层包括至少一种选自聚氨酯粘合剂和聚酯粘合剂的粘合剂、并具有球粘性值不大于3、对不锈钢板的粘结强度不大于2N/cm(按照JIS Z0237测定)和粘结剂层之间的自粘结强度不低于2N/cm。所述粘结胶带的A型硬度测验器硬度(按照JIS K6253测量)不低于20。本发明还提供一种使用自粘结胶带的方法,其中为捆绑、层合或包装制品将制品的部分或整个表面用自粘结胶带覆盖,然后使自粘结胶带的粘结剂层卷缩在一起。

公开(公告)号：CN1305670C

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN01800139.4

申请日：2001-01-16

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 中村徹 ,  柴野富四

IPC: B32B27/00 ,  B32B27/18

Abstract: 本发明公开了一种防粘片材，其包含片状基材和置于其上的加成反应型聚硅氧烷组合物的固化层，所述组合物含有光敏剂，其特征在于：所述固化层通过对加成反应型聚硅氧烷组合物的层进行热处理然后用紫外光辐射进行处理而形成，所述组合物至少含有一种选自α-羟基酮(例如2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮和1-羟基环己基·苯基酮)和α-二酮二烷基乙缩醛(例如苄基二甲基乙缩醛)的光敏剂。另外本发明还公开了一种极高生产率的防粘片材的有效生产方法。加成反应型聚硅氧烷组合物的层对于基材具有良好的粘性并且无迁移性，因此，目标防粘片材具有优异的可剥离性和意想不到的高平整度。

公开(公告)号：CN1208187C

公开(公告)日：2005-06-29

申请号：CN01121744.8

申请日：2001-07-06

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 中村徹 ,  柴野富四

IPC: B32B27/08 ,  B28B7/36 ,  B28B7/38

CPC classification number: C04B35/62218 ,  B32B27/30 ,  B32B27/36 ,  Y10T428/1462 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31794 ,  Y10T428/31797 ,  Y10T428/31928 ,  Y10T428/31935

Abstract: 本发明公开了一种用于生产陶瓷生坯片料的铸膜，该铸膜包括底膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)和在其上形成的脱模层，该脱模层包括来自(A)硬脂酸改性的醇酸树脂和/或硬脂酸改性的丙烯酸类树脂和(B)氨基树脂(例如各自被低级醇醚化的蜜胺树脂、尿素树脂和尿素-蜜胺树脂)的固化树脂。上述铸膜具有极好的陶瓷料浆可湿性和适中的对陶瓷生坯片料的脱模性，而在涂覆涂层时不产生排斥，且非常适用于生产陶瓷电容器、层合的感应器元件等所用的陶瓷生坯片料。

公开(公告)号：CN1444097A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN03128601.1

申请日：2003-01-28

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 三桥正文 ,  柴野富四

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F1/68

Abstract: 一种掩膜元件，包括透过紫外线的基片膜和沉积在基片膜一个表面上的不透过紫外线的树脂层，用激光束照射能除去其颜色，其紫外线的透过率为0.1％和更小并且其厚度为0.1到30微米；一种用该元件制备掩膜的方法；和一种用掩膜制备感光树脂印版的方法。这种掩膜有利于制备印版，如感光印版。掩膜元件提供激光束蚀刻的掩膜。

公开(公告)号：CN1358129A

公开(公告)日：2002-07-10

申请号：CN01800084.3

申请日：2001-01-16

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 中村徹 ,  柴野富四

IPC: B28B1/30 ,  B32B27/00

Abstract: 本发明公开了一种用于生产陶瓷生片的铸型薄膜,它包括一基底薄膜和形成在其上的含有光敏剂的加成反应型硅氧烷组合物的固化层,其中,所述固化层是通过如下方式形成的:在40～120℃的温度范围内,对一层含光敏剂的加成反应型硅氧烷组合物进行热处理,由固体含量表示的涂覆量在0.01～0.2g/m2的范围内,之后用紫外线辐射处理。铸型薄膜具有优异的陶瓷浆料涂覆性和陶瓷生片的脱模性,并且还具有任何常规铸型薄膜迄今无法实现的高平整度。