公开(公告)号：CN117800285A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202410231816.9

申请日：2024-03-01

Applicant: 浙江大学

Inventor： 朱吴乐 ,  孙奇 ,  吴思东 ,  贾炳春 ,  王靖远 ,  高威 ,  韩放 ,  薛曹阳 ,  赵翔 ,  张伟建 ,  居冰峰

IPC: B81C1/00 ,  G05D27/02 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明涉及一种环境气氛下多能场诱导原子级数控加工装置及方法，属于纳米制造领域，该装置包括电磁屏蔽腔和控制机构；电磁屏蔽腔内部设有环境腔体，环境腔体底部设有工件放置平台，顶部设有通过纳米工具执行机构驱动的纳米工具，电磁屏蔽腔上还设有与环境腔体连通的进气口和出气口；控制机构用于控制工件放置平台和纳米工具执行机构以及施加能场，包括力场、温度场、电场、光场和磁场。该装置解决了传统原子层沉积和刻蚀技术中依赖掩膜获得局域特征和无法实现原子级可控制造的问题，又解决了扫描隧道显微镜原子操纵技术中依赖超高真空、超低温环境，只能用于特定材料且操纵效率低等问题，具有原子级精度、效率高、成本低和通用性好等优势。