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公开(公告)号：CN108037584A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711445020.X
申请日：2017-12-27
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 本发明公开了一种V型光束的掩膜板的设计方法，包括以下步骤：步骤一、基于空间近轴波动方程在椭圆坐标系下准确正交解，推导出一种V型光束的电场表达式Vpε；步骤二、对电场表达式Vpε求角向函数，得到angle(Vpε)，并与闪耀光栅P0结合，得到angle(Vpε)+P0；步骤三、利用计算全息原理，通过计算机编码得到V型光束的掩膜板的复透过率函数的具体表达式：基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的V型光束掩膜板。本发明所设计的掩膜板可以产生一种每个光瓣均为V形的V型光束。其V形光瓣数目可控，个数为阶数p的二倍。显著简化了光路结构；因而在细胞分选技术中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN106933027A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710296453.7
申请日：2017-04-28
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种涡旋数目可控的环形涡旋阵列掩模板的设计方法，利用计算全息原理，通过光束复振幅计算模拟使两个具有不同半径的完美涡旋光束掩模板叠加，在远场产生环形涡旋阵列。通过调节两锥透镜锥角控制同心完美涡旋的光环重合程度，可以实现环形涡旋阵列的生成，这种环形涡旋阵列可以任意控制环上涡旋暗核数，因而在微粒操纵技术中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN117784404A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311811842.0
申请日：2023-12-26
Applicant: 河南科技大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 一种可切换混合阶拓扑荷光学涡旋晶格的掩模板设计方法，通过结合空间结构光束的任意曲线塑形技术、拓扑荷值翻倍技术以及热插拔技术，对传统光学涡旋晶格的相位函数进行调制，并结合该光束的振幅、相位与一个闪耀光栅，最终得到可切换混合阶拓扑荷光学涡旋晶格的掩模板，本方案通过改变叠加所用的两个任意曲线涡旋光束的复振幅可得到不同排布的涡旋，通过改变叠加所用的两个任意曲线涡旋光束的拓扑荷可得到不同数量与形状的环上涡旋，通过改变环上可切换涡旋调制的个数可得到不同数量混合阶拓扑荷的环上涡旋，相比之前的操作，单个涡旋的有效控制显著提高了光束调控自由度。因而在多微粒操纵和大容量光通信领域具有非常重要的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110824716B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201911368077.3
申请日：2019-12-26
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 本发明公开一种灵活调控自聚焦光束自聚焦焦距的方法，该方法将使用计算机全息技术产生的具有二次相位因子的相位全息图加载到空间光调制器上，并通过改变二次相位因子系数实现对圆艾里光束自聚焦焦距的调控，产生所需自聚焦焦距的圆艾里光束，光环分布清晰，聚焦效果良好；利用计算机全息技术产生立方相位全息图，对成本几乎没有要求；可体现出不同焦距透镜对圆艾里光束的聚焦效果，相比于使用傅里叶空间产生圆艾里光束的的方式，不需要使用傅里叶变换透镜。并且这种调控方式操作方便，能更加灵活的实现对自聚焦焦距的调控，可以完成特定的研究任务。
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公开(公告)号：CN106933027B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201710296453.7
申请日：2017-04-28
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种涡旋数目可控的环形涡旋阵列掩模板的设计方法，利用计算全息原理，通过光束复振幅计算模拟使两个具有不同半径的完美涡旋光束掩模板叠加，在远场产生环形涡旋阵列。通过调节两锥透镜锥角控制同心完美涡旋的光环重合程度，可以实现环形涡旋阵列的生成，这种环形涡旋阵列可以任意控制环上涡旋暗核数，因而在微粒操纵技术中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN108037584B
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201711445020.X
申请日：2017-12-27
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 本发明公开了一种V型光束的掩膜板的设计方法，包括以下步骤：步骤一、基于空间近轴波动方程在椭圆坐标系下准确正交解，推导出一种V型光束的电场表达式Vpε；步骤二、对电场表达式Vpε求角向函数，得到angle（Vpε），并与闪耀光栅P0结合，得到angle（Vpε）+P0；步骤三、利用计算全息原理，通过计算机编码得到V型光束的掩膜板的复透过率函数的具体表达式：；基于该复透过率函数所描述的掩膜板即为所述的V型光束掩膜板。本发明所设计的掩膜板可以产生一种每个光瓣均为V形的V型光束。其V形光瓣数目可控，个数为阶数p的二倍。显著简化了光路结构；因而在细胞分选技术中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN110824716A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911368077.3
申请日：2019-12-26
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 本发明公开一种灵活调控自聚焦光束自聚焦焦距的方法，该方法将使用计算机全息技术产生的具有二次相位因子的相位全息图加载到空间光调制器上，并通过改变二次相位因子系数实现对圆艾里光束自聚焦焦距的调控，产生所需自聚焦焦距的圆艾里光束，光环分布清晰，聚焦效果良好；利用计算机全息技术产生立方相位全息图，对成本几乎没有要求；可体现出不同焦距透镜对圆艾里光束的聚焦效果，相比于使用傅里叶空间产生圆艾里光束的的方式，不需要使用傅里叶变换透镜。并且这种调控方式操作方便，能更加灵活的实现对自聚焦焦距的调控，可以完成特定的研究任务。
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公开(公告)号：CN108169897A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711445053.4
申请日：2017-12-27
Applicant: 河南科技大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种半径可调的手性椭圆螺旋光束掩模板的设计方法，结合两个椭圆轨迹上平移方向相反的角向平移因子tv、两个径向平移因子ta以及一个横向平移因子tp，同时结合一个椭圆形光阑circ(r)，得到半径可调的手性椭圆螺旋光束掩模板的复透过率函数t的具体表达式：t＝circ(r)(tatv+conj(tatv)+tp)，基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的手性椭圆螺旋光束掩模板；对径向平移因子与角向平移因子取复共轭后可得到相反方向的径向平移因子与角向平移因子；使用这四个平移因子对入射的高斯光束进行混合调制，在掩模板远场即可得到半径可调的手性椭圆螺旋光束；本发明所设计的掩模板可以实现在该掩模板的远场产生半径可调的手性椭圆螺旋光束。
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