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公开(公告)号：CN106663620B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201580036679.2
申请日：2015-07-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明在清洗使用了具有突起部件的滚筒清洗部件的基板时防止或减轻清洗斑。滚筒清洗装置具备：基板支承部件，支承并旋转基板(W)；以及上部滚筒清洗部件(52)，用来旋转并擦洗清洗通过基板支承部件而旋转的基板(W)的表面。上部滚筒清洗部件(52)具备：多个突起部件，被排列于其长度方向，滑接于基板(W)表面。滚筒清洗装置使上部滚筒清洗部件(52)在其长度方向上一边摆动一边旋转来清洗基板(W)，以使突起部件的与基板(W)滑动接触的部分中的高清洗力区域的轨迹无间隙地存在于基板(W)的半径方向。
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公开(公告)号：CN104971916A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201510151490.X
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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公开(公告)号：CN115540513A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202210744150.8
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 本发明提供一种能够抑制微小尺寸的缺陷(例如缺陷尺寸为20nm以下的缺陷)的产生的基板干燥装置及基板干燥方法。基板干燥装置(1)具备：基板保持部(11)，该基板保持部保持基板(W)；气体发生器(60)，该气体发生器生成干燥气体(G)，该干燥气体至少包含IPA蒸气且用于使基板(W)干燥；以及干燥气体喷嘴(30)，该干燥气体喷嘴将干燥气体(G)供给到基板(W)的表面(WA)。在气体发生器(60)设置有用于过滤干燥气体(G)的过滤器(67)，在基板(W)的干燥后的缺陷检查中容许的缺陷尺寸D被设定为20nm以下，并且，缺陷尺寸D与过滤器(67)的过滤尺寸F之比D/F被设定为4以上。
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公开(公告)号：CN109647769B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201811309797.8
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105575851B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201510724374.2
申请日：2015-10-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。
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公开(公告)号：CN111048442A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201910964641.1
申请日：2019-10-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种清洗力高的基板清洗装置和基板清洗部件，所述基板清洗装置具备：基板保持旋转机构，该基板保持旋转机构对基板进行保持并使其旋转；以及辊型的第一清洗部件，该第一清洗部件通过一边与所述基板的第一面的斜端及/或边缘接触一边旋转来对所述第一面进行清洗，所述第一清洗部件的旋转轴与所述基板平行，所述第一清洗部件具有大径部及小径部。
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公开(公告)号：CN109647769A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201811309797.8
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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公开(公告)号：CN107799443A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710780134.3
申请日：2017-09-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/024 , H01L21/67046 , H01L21/68728 , H01L21/02057
Abstract: 本发明提供一种清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。在使基板旋转并且对该基板进行清洗的基板清洗装置中，具有：第一清洗液供给部，该第一清洗液供给部朝向所述基板的中心以第一喷出角度喷出呈喷雾状的清洗液；以及第二清洗液供给部，该第二清洗液供给部朝向所述基板的中心与边缘之间且以比所述第一喷出角度大的第二喷出角度喷出呈喷雾状的清洗液。
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公开(公告)号：CN106663620A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580036679.2
申请日：2015-07-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明在清洗使用了具有突起部件的滚筒清洗部件的基板时防止或减轻清洗斑。滚筒清洗装置具备：基板支承部件，支承并旋转基板(W)；以及上部滚筒清洗部件(52)，用来旋转并擦洗清洗通过基板支承部件而旋转的基板(W)的表面。上部滚筒清洗部件(52)具备：多个突起部件，被排列于其长度方向，滑接于基板(W)表面。滚筒清洗装置使上部滚筒清洗部件(52)在其长度方向上一边摆动一边旋转来清洗基板(W)，以使突起部件的与基板(W)滑动接触的部分中的高清洗力区域的轨迹无间隙地存在于基板(W)的半径方向。
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