半导体开关元件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109075197A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201680082528.5

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 提供了一种沟槽栅半导体开关元件。所述元件的半导体衬底包括:第二导电类型底部区,其与所述沟槽的底表面处的所述栅极绝缘层接触;以及第一导电类型第二半导体区,其从与所述体区的下表面接触的位置延伸到与所述底部区的下表面接触的位置。所述底部区包括:第一底部区,其与位于所述沟槽的纵向上的端部处的所述底表面的第一范围中的所述栅极绝缘层接触,并且从所述底表面延伸到第一位置;以及第二底部区,其与在邻近所述第一范围的第二范围中的所述栅极绝缘层接触,并且从所述底表面延伸到比所述第一位置更低的第二位置。

    半导体开关元件
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109075196B

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN201680082465.3

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 提供了一种沟槽栅半导体开关元件。该元件的半导体衬底包括:第二导电类型的底部区,其在沟槽的底表面处与栅极绝缘层接触;以及第一导电类型的第二半导体区,其从与体区的下表面接触的位置延伸到与底部区的下表面接触的位置,并且在体区的下侧与栅极绝缘层接触。底部区包括:低浓度区,其在底表面之中的位于沟槽在纵向上的端部处的第一范围中与栅极绝缘层接触;以及高浓度区,其在底表面之中的与第一范围相邻的第二范围中与栅极绝缘层接触。

    半导体开关元件
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109075197B

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN201680082528.5

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 提供了一种沟槽栅半导体开关元件。所述元件的半导体衬底包括:第二导电类型底部区,其与所述沟槽的底表面处的所述栅极绝缘层接触;以及第一导电类型第二半导体区,其从与所述体区的下表面接触的位置延伸到与所述底部区的下表面接触的位置。所述底部区包括:第一底部区,其与位于所述沟槽的纵向上的端部处的所述底表面的第一范围中的所述栅极绝缘层接触,并且从所述底表面延伸到第一位置;以及第二底部区,其与在邻近所述第一范围的第二范围中的所述栅极绝缘层接触,并且从所述底表面延伸到比所述第一位置更低的第二位置。

    半导体开关元件
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109075196A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201680082465.3

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 提供了一种沟槽栅半导体开关元件。该元件的半导体衬底包括:第二导电类型的底部区,其在沟槽的底表面处与栅极绝缘层接触;以及第一导电类型的第二半导体区,其从与体区的下表面接触的位置延伸到与底部区的下表面接触的位置,并且在体区的下侧与栅极绝缘层接触。底部区包括:低浓度区,其在底表面之中的位于沟槽在纵向上的端部处的第一范围中与栅极绝缘层接触;以及高浓度区,其在底表面之中的与第一范围相邻的第二范围中与栅极绝缘层接触。

    开关元件
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107919383A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201710887817.9

    申请日:2017-09-27

    Abstract: 本发明提供一种开关元件,抑制在连接区域产生的电场。开关元件具备:半导体基板;沟槽,设于半导体基板的上表面;栅极绝缘层,覆盖沟槽的内表面;以及栅电极,配置于沟槽内,并且通过栅极绝缘层而与半导体基板绝缘。半导体基板具备:第一导电型的第一半导体区域,与栅极绝缘层接触;第二导电型的体区域,在第一半导体区域的下侧与栅极绝缘层接触;第一导电型的第二半导体区域,在体区域的下侧与栅极绝缘层接触;第二导电型的底部区域,在沟槽的底面与栅极绝缘层接触;以及第二导电型的连接区域,在沟槽的侧面与栅极绝缘层接触,并且将体区域与底部区域连接。连接区域的厚度比底部区域的厚度厚。

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