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公开(公告)号：CN107042704A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201710064191.1
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G11B7/126 , B41J2/46 , G11B7/00456 , G11B7/127 , G11B7/1384 , B41J3/445 , B41J2/315
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用包括多个激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元的记录装置，从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录由书写单元形成的图像，其中排列配置为引导由激光‑发射元件发射的激光的多个光纤，其中以如下设定值控制书写单元沿着副扫描方向的最大长度：输入至发射单元的脉冲信号的占空比和周期；施加至记录目标的记录能量；和激光的光斑直径，以在使副扫描方向上书写单元的边缘与相邻书写单元的边缘重叠的情况下记录。
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公开(公告)号：CN107042701A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201710064134.3
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用记录装置从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录书写单元的图像，所述记录装置包括激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元，其中排列引导从激光‑发射元件发射的激光的光纤。其中，其中从在主扫描方向上彼此相邻的光纤施加激光至记录目标以记录在主扫描方向上至少部分地重叠的书写单元的实心图像，与用于记录在实体图像的两个边缘处存在的书写单元的激光的照射能量相比，通过减小用于记录除了实心图像相对于主扫描方向的两个边缘之外的书写单元的激光的照射能量来进行记录。
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公开(公告)号：CN102180049B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201010576221.5
申请日：2010-12-01
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/426 , B41M5/305 , B41M2205/04
Abstract: 本发明的名称为热可逆记录介质和热可逆记录元件。本发明提供热可逆记录介质，其包括载体；热可逆记录层，其包括含有给电子成色化合物和受电子化合物的热可逆组合物；含金属化合物的层，其包括树脂、有机金属化合物和和无机层状化合物，其中所述树脂是选自聚乙烯醇聚合物和乙烯-乙烯醇共聚物的至少一种，和所述有机金属化合物是选自有机钛化合物和有机锆化合物的至少一种；和保护层，其保护所述含金属化合物的层，其中所述载体、所述热可逆记录层、所述含金属化合物的层和所述保护层以该顺序层压。
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公开(公告)号：CN102180049A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN201010576221.5
申请日：2010-12-01
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/426 , B41M5/305 , B41M2205/04
Abstract: 本发明的名称为热可逆记录介质和热可逆记录元件。本发明提供热可逆记录介质，其包括载体；热可逆记录层，其包括含有给电子成色化合物和受电子化合物的热可逆组合物；含金属化合物的层，其包括树脂、有机金属化合物和和无机层状化合物，其中所述树脂是选自聚乙烯醇聚合物和乙烯-乙烯醇共聚物的至少一种，和所述有机金属化合物是选自有机钛化合物和有机锆化合物的至少一种；和保护层，其保护所述含金属化合物的层，其中所述载体、所述热可逆记录层、所述含金属化合物的层和所述保护层以该顺序层压。
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公开(公告)号：CN1820963A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510137378.7
申请日：2005-11-02
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/3375 , B41M5/305 , B41M5/3336 , Y10S430/146
Abstract: 一种可逆热敏记录介质，包括基体和热敏层，所述热敏层包括电子给体着色化合物、电子受体化合物和包括一个或多个硫原子且其一侧带有烷基的酚类抗氧化剂。另外，热敏层根据温度变化可逆地改变其颜色，从而可逆地记录和擦除其上的图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107042701B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201710064134.3
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用记录装置从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录书写单元的图像，所述记录装置包括激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元，其中排列引导从激光‑发射元件发射的激光的光纤。其中，其中从在主扫描方向上彼此相邻的光纤施加激光至记录目标以记录在主扫描方向上至少部分地重叠的书写单元的实心图像，与用于记录在实体图像的两个边缘处存在的书写单元的激光的照射能量相比，通过减小用于记录除了实心图像相对于主扫描方向的两个边缘之外的书写单元的激光的照射能量来进行记录。
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公开(公告)号：CN101041308B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200710088399.3
申请日：2007-03-19
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/305 , B41M5/3335
Abstract: 提供了可逆热敏记录介质，其包括载体、形成于所述载体上的热敏记录层和形成于所述热敏记录层上的保护层，其中所述热敏记录层含有给电子着色化合物和受电子化合物，并且色调依赖温度而可逆变化，以及所述保护层含有聚合物组合物，该组合物含有两种丙烯酸酯化合物，其选自具有季戊四醇基团的丙烯酸酯化合物和具有二季戊四醇基团的丙烯酸酯化合物。
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公开(公告)号：CN100556706C
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200610108837.3
申请日：2006-08-14
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/471 , B41J2/315 , B41J2/4753
Abstract: 本发明提供相对热可逆介质、由以高密度进行均匀图像的形成和以短时间进行图像的均匀消除，能够以高速反复形成和能够消除高对比度图像、并且抑制由反复的形成与消除所产生的所述热可逆记录介质变差的图像处理方法和图像处理装置。本发明的图像处理方法，包含取决于温度地透明度和色调的任意一个相对可逆地变化的热可逆记录介质，由照射激光束加热、在所述热可逆记录介质形成图像的图像形成步骤和相对所述热可逆记录介质，由照射激光束加热、消除在该热可逆记录介质形成图像的图像消除步骤的至少任意一个；在所述图像形成步骤和所述图像消除步骤的至少任意一个中照射的激光束中的、相对该激光束的前进方向大致垂直相交方向的截面中的光强度分布中，中心的光照射强度是和周边的光照射强度同等以下。
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公开(公告)号：CN101352982A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810130012.0
申请日：2008-07-23
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/426 , B41M5/305 , B41M5/44 , B41M2205/04 , B41M2205/40
Abstract: 本发明是可逆热敏记录材料、IC卡、磁卡和制造可逆热敏记录材料的方法。可逆热敏记录材料，其包括载体、可逆热敏记录层和隔气层，所述可逆热敏记录层和隔气层位于所述载体上，其中所述可逆热敏记录层是由含有受电子化合物和给电子颜色形成化合物的混合物的可逆热敏组合物形成的，该可逆热敏组合物的显色状态根据加热温度和加热后冷却速率的至少一个而变化，并且其中所述隔气层含有无机层状化合物和隔气性树脂，所述树脂选自聚乙烯醇聚合物和乙烯－乙烯醇共聚物的至少一种。
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公开(公告)号：CN1911679A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610108837.3
申请日：2006-08-14
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/471 , B41J2/315 , B41J2/4753
Abstract: 本发明提供相对热可逆介质、由以高密度进行均匀图像的形成和以短时间进行图像的均匀消除，能够以高速反复形成和能够消除高对比度图像、并且抑制由反复的形成与消除所产生的所述热可逆记录介质变差的图像处理方法和图像处理装置。本发明的图像处理方法，包含取决于温度地透明度和色调的任意一个相对可逆地变化的热可逆记录介质，由照射激光束加热、在所述热可逆记录介质形成图像的图像形成步骤和相对所述热可逆记录介质，由照射激光束加热、消除在该热可逆记录介质形成图像的图像消除步骤的至少任意一个；在所述图像形成步骤和所述图像消除步骤的至少任意一个中照射的激光束中的、相对该激光束的前进方向大致垂直相交方向的截面中的光强度分布中，中心的光照射强度是和周边的光照射强度同等以下。
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