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公开(公告)号：CN1168971C
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN99105149.1
申请日：1999-04-21
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 森田展弘
IPC: G01N21/43
CPC classification number: G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
Abstract: 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。调整照射光学系位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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