公开(公告)号：CN102362227B

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201080011781.4

申请日：2010-03-05

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  水谷英夫

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 本发明的曝光设备具有：移动机构(SC)，其沿着第一方向(X方向)在第一航向上(-X方向)上移动具有光敏性的带形衬底(SH)的第一部分并沿着第一方向在第二航向(+X方向)上移动衬底的第二部分；台机构(MS)，保持掩模(M)并与衬底的移动同步地沿着第二方向(Y方向)在第三航向(+Y方向)上移动掩模；以及投影光学系统(PL)。投影光学系统在第一部分上形成图案的第一投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第一部分的第一航向光学对应，并在第二部分上形成图案的第二投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第二部分的第二航向光学对应。

公开(公告)号：CN102612669A

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201180004420.1

申请日：2011-02-02

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  水谷英夫

IPC: G03F7/213 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备：使图案移动的工作台机构(MS)；投影光学系统(PL)，其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1)，且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2)；移动机构(SC)，该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动；以及调整机构(50)，该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔，对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。

公开(公告)号：CN102472978A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080032017.5

申请日：2010-07-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  水谷英夫

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733

Abstract: 当片(S)的分块区域(SAi)被扫描曝光时，载物台(SST1)在扫描区域(AS)的+X端部的备用位置处将与片(S)的分块区域(SAi)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上，并且与掩模(掩模载物台)同步地以预定行程在X轴方向(-X方向)上移动。此时，与掩模的图案部分对应的照射束通过投射光学系统照射在片(S)上。由此转印(形成)图案。在对分块区域(SAi)进行扫描曝光之后，载物台(SST2)移动到XY平面内的备用位置。在载物台(SST2)将与片(S)的下一个分块区域(SAi+1)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上之后，通过与上述类似的扫描曝光方法进行曝光，由此形成图案。

公开(公告)号：CN100444315C

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200380105420.6

申请日：2003-12-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 水谷英夫 ,  马込伸贵

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种曝光装置，在投影光学系统与基片(P)之间的至少一部分用液体充满，经由投影光学系统和液体将图案像投影到基片(P)上，由此对基片(P)进行曝光，具备对投影光学系统与基片(P)之间的液体中的气泡进行检测的气泡检测器(20)。曝光装置在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光处理之际，能够抑制起因于液体中的气泡的图案像的劣化。