公开(公告)号：CN102157370B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201110066173.X

申请日：2008-02-13

Applicant: 芝浦机械电子株式会社 ,  培尔梅烈克电极股份有限公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 柴田幸弘 ,  速水直哉 ,  加藤昌明 ,  小林信雄

IPC: H01L21/306 ,  C25B1/30 ,  C25B1/22

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。

公开(公告)号：CN102030306B

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201010287644.5

申请日：2010-09-20

Applicant: 株式会社东芝 ,  培尔梅烈克电极股份有限公司 ,  芝浦机械电子株式会社

Inventor： 速水直哉 ,  田家真纪子 ,  加藤昌明 ,  土门宏纪 ,  尾川裕介 ,  黑川祯明 ,  小林信雄

IPC: G03F7/42 ,  B81C1/00

CPC classification number: C25B1/28 ,  G03F7/423

Abstract: 根据一个实施方案，公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外，该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。