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公开(公告)号:CN103325989B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201310085513.2
申请日:2013-03-18
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 深津健太
CPC classification number: H01M10/0404 , H01M2/361 , H01M2/365 , H01M10/0481 , H01M10/0525 , Y10T29/4911 , Y10T29/49115 , Y10T29/53135
Abstract: 本发明提供电池的制造装置以及电池的制造方法。实施方式的电池的制造装置具备:电解液供给部、腔室、第1压力调整部以及第2压力调整部。上述电解液供给部向电池单体内供给电解液。上述腔室收纳上述电池单体。上述第1压力调整部使上述电池单体内的压力低于上述电解液供给部侧的压力。上述第2压力调整部在收纳上述电池单体的腔室内使上述电池单体外的压力低于上述电池单体内的压力,并增加上述电池单体内的容积。
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公开(公告)号:CN102430498B
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201110266104.3
申请日:2011-09-08
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05C1/0843 , B05C5/0254 , B05C9/04 , B05C11/025 , B05D1/265 , B05D3/0254 , B05D3/12 , B05D2252/10 , H01M4/0402
Abstract: 双面涂敷装置以及双面涂敷方法。一个方式的双面涂敷装置为,对具有涂布区域和非涂布区域并形成为片状的基体材料的双面的涂布区域涂布涂液,具备:搬送机构,将基体材料向送出方向搬送;第一涂布头,配置在基体材料的一个面侧,使涂液朝向与送出方向交叉的方向交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液;第二涂布头,配置在基体材料的另一个面侧,使涂液朝向与送出方向交叉的方向交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液;以及涂敷辊,配置在基体材料的一个面侧且在夹着基体材料与第二涂布头对置的位置附近,沿着轴向具有直径不同的大径部和小径部,上述小径部与上述涂布区域对置,上述大径部与上述非涂布区域对置。
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公开(公告)号:CN102412424A
公开(公告)日:2012-04-11
申请号:CN201110226307.X
申请日:2011-08-08
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01M2/365 , H01M2/0426 , H01M10/0436 , Y10T29/4911
Abstract: 本发明提供密闭型二次电池及其制造方法。根据实施形态,密闭型二次电池(10)具备:具有开口部、收容电极体(13)和电解液(12)的容器主体(11A);将容器主体(11A)的开口部封口的封口板(11B);贯穿封口板(11B)地形成、用来将电解液(12)注入容器主体(11A)内的注液孔;在注液孔的封口板的表面的孔周围部具有环形空隙地被定位,将外周边缘部焊接到封口板(11B)上从而密封注液孔的密封体(20)。
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公开(公告)号:CN100454380C
公开(公告)日:2009-01-21
申请号:CN200510105842.4
申请日:2005-09-23
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G02F1/1309
Abstract: 本发明的目的在于提供一种液晶显示装置的缺陷像素修正方法及液晶显示装置,其用以修正液晶显示装置的缺陷像素,且通过将脉冲激光照射至与上述缺陷像素相邻接的信号线,使相应于上述缺陷像素的位置的液晶材料中产生气泡,此气泡的大小为大致覆盖全体上述缺陷像素,并对使上述气泡产生的大致全体缺陷像素照射脉冲激光,而修正上述缺陷像素。
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公开(公告)号:CN1755786A
公开(公告)日:2006-04-05
申请号:CN200510105842.4
申请日:2005-09-23
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G02F1/1309
Abstract: 本发明的目的在于提供一种液晶显示装置的缺陷像素修正方法及液晶显示装置,其用以修正液晶显示装置的缺陷像素,且通过将脉冲激光照射至与上述缺陷像素相邻接的信号线,使相应于上述缺陷像素的位置的液晶材料中产生气泡,此气泡的大小为大致覆盖全体上述缺陷像素,并对使上述气泡产生的大致全体缺陷像素照射脉冲激光,而修正上述缺陷像素。
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公开(公告)号:CN104064703B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201410051655.1
申请日:2014-02-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M2/12
CPC classification number: H01M10/049 , H01M2/0473 , H01M2/365 , H01M10/446 , H01M10/52 , Y10T29/4911
Abstract: 本发明涉及密闭型二次电池及密闭型二次电池的制造方法,能够容易地放出暂时密封及充放电产生的气体。密闭型二次电池的制造方法中,密闭型二次电池的在配置有电极体及电解液的容器主体的开口被由金属材料形成且具备开口部的盖体堵塞,在该密闭型二次电池的容器的盖体上以覆盖开口部的方式载置用于对开口部进行密封的由金属材料形成为薄板状的第一密封体,将第一密封体焊接到盖体上。对焊接了第一密封体的密闭型二次电池进行充电,在充电后对密闭型二次电池进行放电。在放电后对第一密封体进行穿孔来形成孔部,以覆盖第一密封体的防止载置用于对开口部及孔部进行密封的由金属材料形成为薄板状的第二密封体,将第二密封体经由第一密封体焊接到盖体。
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公开(公告)号:CN104064703A
公开(公告)日:2014-09-24
申请号:CN201410051655.1
申请日:2014-02-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M2/12
CPC classification number: H01M10/049 , H01M2/0473 , H01M2/365 , H01M10/446 , H01M10/52 , Y10T29/4911
Abstract: 本发明涉及密闭型二次电池及密闭型二次电池的制造方法,能够容易地放出暂时密封及充放电产生的气体。密闭型二次电池的制造方法中,密闭型二次电池的在配置有电极体及电解液的容器主体的开口被由金属材料形成且具备开口部的盖体堵塞,在该密闭型二次电池的容器的盖体上以覆盖开口部的方式载置用于对开口部进行密封的由金属材料形成为薄板状的第一密封体,将第一密封体焊接到盖体上。对焊接了第一密封体的密闭型二次电池进行充电,在充电后对密闭型二次电池进行放电。在放电后对第一密封体进行穿孔来形成孔部,以覆盖第一密封体的防止载置用于对开口部及孔部进行密封的由金属材料形成为薄板状的第二密封体,将第二密封体经由第一密封体焊接到盖体。
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公开(公告)号:CN102430498A
公开(公告)日:2012-05-02
申请号:CN201110266104.3
申请日:2011-09-08
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05C1/0843 , B05C5/0254 , B05C9/04 , B05C11/025 , B05D1/265 , B05D3/0254 , B05D3/12 , B05D2252/10 , H01M4/0402
Abstract: 双面涂敷装置以及双面涂敷方法。一个方式的双面涂敷装置为,对具有涂布区域和非涂布区域并形成为片状的基体材料的双面的涂布区域涂布涂液,具备:搬送机构,将基体材料向送出方向搬送;第一涂布头,配置在基体材料的一个面侧,使涂液朝向与送出方向交叉的方向交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液;第二涂布头,配置在基体材料的另一个面侧,使涂液朝向与送出方向交叉的方向交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液;以及涂敷辊,配置在基体材料的一个面侧且在夹着基体材料与第二涂布头对置的位置附近,沿着轴向具有直径不同的大径部和小径部,上述小径部与上述涂布区域对置,上述大径部与上述非涂布区域对置。
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公开(公告)号:CN102417109A
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN201110263797.0
申请日:2011-09-07
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L21/67772
Abstract: 本实施方式的一个方式的搬运机构,在相互使开口部侧对置配置的处理室和搬运箱之间,一边维持气密状态一边交接工件,其中,具备:处理室盖部,使上述处理室的开口部开闭自由且气密地覆盖上述处理室的开口部,并且在上述搬运箱侧具有凹部;引导机构,向上述处理室的内部侧引导该处理室盖部;工件支撑部,设置于上述处理室内;搬运箱盖部,使上述搬运箱的开口部开闭自由且气密地覆盖上述搬运箱的开口部,并且气密地嵌入上述凹部;以及结合部,上述处理室的开口部周围的前面部与上述搬运箱的开口部周围的前面部气密地结合而成。
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