半导体装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102124555B

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201080002292.2

    申请日:2010-08-24

    CPC classification number: H01L27/0207

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置,其布局能够可靠地抑制因光接近效应引起的栅极长度的偏差,并且可以实现自由的布局设计。单元(C1)的栅极图案(G1、G2、G3)以相同间距配置,其终端部(e1、e2、e3)的Y方向的位置以及X方向的宽度相同。单元(C2)的栅极图案(G4)具有沿Y方向朝向单元(C1)延伸的突出部(4b),该突出部(4b)构成了对置终端部(eo1、eo2、eo3)。对置终端部(eo1、eo2、eo3)与栅极图案(G1、G2、G3)以相同间距配置,并且对置终端部的Y方向的位置以及X方向的宽度相同。

    半导体装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102334183A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201180000675.0

    申请日:2011-02-18

    CPC classification number: H01L27/0207 H01L27/0296 H01L27/11807

    Abstract: 标准单元(C1)具有在Y方向上延伸、并且在X方向上以相同的间距配置的栅极图案(G1、G2、G3),其各终端部(e1、e2、e3)在Y方向上处于相同的位置,并且在X方向上的宽度相同。二极管单元(C2)在Y方向上与标准单元(C1)相邻,并且除了具有作为二极管的功能的扩散层(D1~D10)之外,还具备与终端部(e1、e2、e3)相对置地配置的由栅极图案(G4、G5、G6)形成的多个对置终端部(eo1、eo2、eo3)。

Patent Agency Ranking