公开(公告)号：CN115916487A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202080102442.0

申请日：2020-12-24

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 西川和宏

IPC: B25J19/02

Abstract: 吸附工件的工件吸附装置具有：吸附头，其配置有第一电极部和第二电极部，通过在所述第一电极部和所述第二电极部之间形成的电场来静电吸附所述工件；第三电极部，其与所述第一电极部或所述第二电极部电连接；以及静电电容传感器，其具有与所述第三电极部电容耦合的检测电极。

公开(公告)号：CN115715247A

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN202080102434.6

申请日：2020-12-24

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 西川和宏 ,  上田贵大

IPC: B25J15/06

Abstract: 吸附工件的工件吸附装置具有吸附头，该吸附头配置有第一电极部和第二电极部，通过在所述第一电极部和所述第二电极部之间形成的电场来静电吸附所述工件。所述第一电极部通过跨越所述吸附头的吸附所述工件的吸附面和与所述吸附面连接的第一面这两个面而配置，从而具有第一角部。所述第二电极部通过跨越所述吸附头的所述吸附面和与所述吸附面连接的第二面这两个面而配置，从而具有第二角部。所述第一角部和所述第二角部相对。

公开(公告)号：CN110868787A

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201910777352.0

申请日：2019-08-22

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 西川和宏

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明提供等离子体处理装置，该等离子体处理装置具有：电压电极，其被施加电压；接地电极，其与接地电位导通；以及被处理物保持架，其对被处理物进行保持，在未向所述电压电极施加所述电压时，所述被处理物处于电位相对于所述电压电极和所述接地电极独立的电浮动状态，通过向所述电压电极施加所述电压，在所述电压电极与所述被处理物之间和所述接地电极与所述被处理物之间的至少一方产生等离子体。

公开(公告)号：CN111834190A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN202010294659.8

申请日：2020-04-15

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 西川和宏 ,  高桥大辅 ,  野村胜

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置，其对载置于载物台的工件进行等离子处理，该等离子处理装置具有：检查电路部，其用于上述工件向上述载物台的载置状态的检查；等离子处理电路部，其用于上述等离子处理；以及第一切换部，其能够进行上述检查电路部与上述等离子处理电路部的选择。上述检查电路部具有：检查用连接部，其包含于上述载物台，且在上述工件载置于上述载物台上的上述等离子处理用的预定位置的情况下与上述工件电连接；以及计测部，其设为能够计测包括上述工件与上述检查用连接部之间的电阻的检查用电阻。

公开(公告)号：CN109585250A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811136456.5

申请日：2018-09-28

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 西川和宏

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供等离子体处理装置，其具有：保持部，其保持工件；以及电极部，电极部至少在工件所具有的孔的内部与孔的内壁面的至少一部分在径向上对置。