公开(公告)号：CN104661732A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380050062.7

申请日：2013-09-19

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 宫原诚 ,  市川真纪子 ,  谷岛健二 ,  中村真二 ,  长坂龙二郎

IPC: B01D69/04 ,  B01D65/10 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02

CPC classification number: B01D65/108 ,  B01D63/066 ,  B01D65/003 ,  B01D65/102 ,  B01D65/104 ,  B01D65/106 ,  B01D69/02 ,  B01D71/021 ,  B01D71/027 ,  B01D71/028 ,  B01D2325/24 ,  B29C73/02 ,  B29C73/06 ,  B29K2079/08 ,  B29K2995/0068 ,  B29L2031/14 ,  G01M3/3254 ,  G01M3/34 ,  G01N15/08

Abstract: 提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的修补方法、经过修补的一体型分离膜结构体。从孔单元(4)外对每个孔单元(4)用气体加压，测定气体渗透孔单元(4)内的渗透量，渗透量多于(所有孔单元的渗透量平均值+A)(其中A为σ～6σ的规定值、σ为标准偏差)的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。或者，对每个孔单元(4)减压，测定孔单元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔单元的真空度平均值+A)低的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。然后，向一体型分离膜结构体(1)的缺陷孔单元(4)内注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔单元(4)。或者，将预成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔单元(4)，堵住缺陷孔单元(4)。

公开(公告)号：CN116847924A

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202280008318.7

申请日：2022-02-16

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 小林航 ,  宫原诚 ,  野田宪一

IPC: B01D69/02

Abstract: 沸石膜复合体具备多孔质的支撑体和沸石膜，该沸石膜设置在支撑体上，且包含ETL型沸石。对沸石膜的表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，2θ＝9.9°附近存在的峰的强度及2θ＝19.8°附近存在的峰的强度为2θ＝7.9°附近存在的峰的强度的0.8倍以上。据此，能够容易地提供具有提高了致密性的ETL型沸石膜的沸石膜复合体。

公开(公告)号：CN110446543B

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN201880014746.4

申请日：2018-03-15

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 萩尾健史 ,  野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉 ,  三浦绫 ,  吉村辽太郎

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/00 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B39/04 ,  C01B39/54

Abstract: 在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(110)晶面的峰强度为(004)晶面的峰强度的2.5倍以上。

公开(公告)号：CN113574017A

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN202080007124.6

申请日：2020-02-19

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 野田宪一 ,  宫原诚

IPC: C01B39/48

Abstract: 在沸石膜复合体的制造中，准备至少包含结构导向剂和平均粒径为50～500nm的FAU型沸石粒子的原料溶液(步骤S12)。接下来，将支撑体浸渍于原料溶液中，通过水热合成，在支撑体上形成包含AFX型沸石的沸石膜(步骤S13)。然后，从沸石膜中除去结构导向剂(步骤S14)。上述沸石膜复合体的制造中，能够提供包含结晶性高且均质的AFX型沸石的沸石膜。

公开(公告)号：CN111902202A

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201980015692.8

申请日：2019-01-09

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 宫原诚 ,  野田宪一

IPC: B01D69/10 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  B01J20/20 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30 ,  C01B39/48 ,  C04B38/00 ,  C04B41/85

Abstract: 支撑体(11)为沸石膜支撑用的多孔质的陶瓷支撑体。支撑体(11)的透水系数为1.1×10－3m/s以下。在支撑体(11)的与表面(114)垂直的深度方向上，自表面(114)起算30μm以内的表层部(116)中的碱金属及碱土金属的合计含有率为1重量％以下。由此，能够抑制沸石膜(12)中发生异常。

公开(公告)号：CN110446544A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201880014747.9

申请日：2018-03-15

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 萩尾健史 ,  野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/00 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B39/04 ,  C01B39/54

Abstract: 在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(004)晶面的峰强度为(110)晶面的峰强度的3倍以上。

公开(公告)号：CN110446543A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201880014746.4

申请日：2018-03-15

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 萩尾健史 ,  野田宪一 ,  宫原诚 ,  清水克哉 ,  三浦绫 ,  吉村辽太郎

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/00 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B39/04 ,  C01B39/54

Abstract: 在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(110)晶面的峰强度为(004)晶面的峰强度的2.5倍以上。

公开(公告)号：CN105121346B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201480019436.3

申请日：2014-03-28

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 谷岛健二 ,  萩尾健史 ,  宫原诚 ,  内川哲哉 ,  犬饲直子 ,  市川真纪子

IPC: C01B39/48 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02

Abstract: 提供可制造缺陷少的沸石膜的沸石膜制造方法、缺陷少的八元氧环沸石膜、以及可以评价缺陷的八元氧环沸石膜的评价方法。在多孔体的表面附着沸石晶种前，作为前处理，将多孔体在氧存在下进行400℃以上的加热处理，加热处理后在湿度30％以上的环境下保存12小时以上，然后，使沸石晶种附着于多孔体，制造沸石膜。将多孔体加热处理而制造的八元氧环沸石膜，其CF4的透过速度除以CO2的透过速度得到的值在0.015以下，缺陷较少。

公开(公告)号：CN104755155B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201380057371.7

申请日：2013-11-01

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 宫原诚 ,  市川真纪子 ,  中村真二 ,  长坂龙二郎

IPC: B01D65/00 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  C01B39/48

CPC classification number: B01J29/90 ,  B01D63/066 ,  B01D65/02 ,  B01D69/12 ,  B01D71/025 ,  B01D71/028 ,  B01D2321/32 ,  B01D2325/12 ,  B01J29/70 ,  B01J35/002 ,  B01J35/04 ,  B01J35/065 ,  B01J38/02 ,  B01J2229/40 ,  B01J2229/64 ,  C01B39/48

Abstract: 提供一种使暴露于水中后的沸石膜再生的、简易的沸石膜的再生方法。沸石膜的再生方法是在陶瓷多孔体上成膜、进行结构导向剂的去除处理的沸石膜的再生方法。该方法中，在陶瓷多孔质体与沸石膜的热膨胀量的比例之差，以40℃为基准时为0.3％以下的温度的再生温度下进行加热。再生温度优选不超过沸石膜成膜时使用的结构导向剂的氧化热分解温度的温度。

公开(公告)号：CN106102879A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201580012179.5

申请日：2015-02-13

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 宫原诚 ,  市川真纪子 ,  铃木秀之

IPC: B01D69/04 ,  B01D69/02 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12

Abstract: 整体型分离膜结构体(100)包括：多孔的整体型基材(200)和分离膜(300)。整体型基材(200)具有：第一端面(210a)、第二端面(210b)、分别从第一端面(210a)贯通至第二端面(210b)的多个贯通孔(210d)。分离膜(300)形成在多个贯通孔(210d)各自的内表面。分离膜300的表面粗糙度Ra为1μm以下。分离膜300的厚度为5μm以下。