层压膜和复合膜
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102001201A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN201010261691.2

    申请日:2010-08-25

    Inventor: 伊藤滋英

    Abstract: 本发明提供了一种具有优异的阻挡性的层压膜和复合膜。所述层压膜依次包含基材膜、有机层和无机层,其中,所述有机层具有300nm~2000nm的厚度,所述无机层包含由SiOx表示的硅氧化物,其中x为0.9~1.5,并且所述有机层具有满足Ra(100μm×100μm)<50nm、Ra(10μm×10μm)<2nm和75nm<Rz(100μm×100μm)<300nm的表面。

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