公开(公告)号：CN101911841A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880123075.1

申请日：2008-12-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 岸本克史 ,  福冈裕介

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32724

Abstract: 提供了一种等离子处理装置，其具有相对较低的制造成本和良好的加热效率和冷却效率。阳极电极(7)在其中配备有管状加热单元(31)用于加热要被等离子处理的处理物品(包括托盘(5)和基板(6))。管状加热单元(31)包括七个管状加热器(在该实例中为埋入式加热器)(31)，其在俯视平面视图中为U形形状并且彼此平行并相邻。阳极电极(7)在其中还配备有用于冷却阳极电极(7)的管状冷却单元(32)。管状冷却单元(32)包括七个冷却管道(在该实例中为冷却氮气导管)(32)，其在俯视平面视图中为U形形状并且沿着各管状加热器(31)的外侧彼此平行并相邻，这些冷却管道可以将引入到其中的冷却气体在通过冷却管道之后排出到外部。

公开(公告)号：CN101336467A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200680051801.4

申请日：2006-11-16

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 福冈裕介 ,  岸本克史

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/509

CPC classification number: H01J37/32541 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568

Abstract: 一种等离子体加工装置，其中当阳极电极和阴极电极的面积增大时，尽管发生电极挠曲仍可以获得良好的膜沉积性质。等离子体加工装置(100)包括室(15)、气体引入部(28)、排气部分(29)和高频电源单元(30)。在室(15)中配置平面阳极电极(第一电极)(4)、平面阴极电极(第二电极)(12)，以及用于可滑动地将电极(4、12)彼此平行地支撑的第一支撑(6)和第二支撑(5)。阴极电极(12)相对于阳极电极(4)配置。阳极电极(4)和阴极电极(12)分别简单地安装在第一支撑(6)和第二支撑(5)上，而没有通过螺钉等固定。当阳极电极(4)和阴极电极(12)在其自身重量下自由挠曲时，它们的挠曲量彼此相等，而且电极(4、12)的最大挠曲量也彼此相等。