成像设备
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104035299A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410235915.0

    申请日:2010-08-25

    Inventor: 松本良孝 辻优

    CPC classification number: G03G15/6552

    Abstract: 一种成像设备,包括主体、后处理装置、对象作业部、光源和遮光构件。后处理装置被设置为能够在缩回位置和突出位置之间自由地移位,在所述缩回位置处后处理装置被接纳到主体的体内纸张排出部内,在所述突出位置处后处理装置被拉向一个侧面侧。对象作业部沿后处理装置的拉出方向被设置于后处理装置的上游侧面。光源被设置于后处理装置的上游侧面,并在突出位置中照亮对象作业部。遮光构件被设置于后处理装置的上游侧面且位于光源的前面侧,并且阻挡光源的到达前面侧的直射光。

    成像设备
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102004407A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN201010263991.4

    申请日:2010-08-25

    Inventor: 松本良孝 辻优

    CPC classification number: G03G15/6552

    Abstract: 一种成像设备,包括主体、后处理装置、对象作业部、光源和遮光构件。后处理装置被设置为能够在缩回位置和突出位置之间自由地移位,在所述缩回位置处后处理装置被接纳到主体的体内纸张排出部内,在所述突出位置处后处理装置被拉向一个侧面侧。对象作业部沿后处理装置的拉出方向被设置于后处理装置的上游侧面。光源被设置于后处理装置的上游侧面,并在突出位置中照亮对象作业部。遮光构件被设置于后处理装置的上游侧面且位于光源的前面侧,并且阻挡光源的到达前面侧的直射光。

    成像设备
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104035299B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201410235915.0

    申请日:2010-08-25

    Inventor: 松本良孝 辻优

    CPC classification number: G03G15/6552

    Abstract: 一种成像设备,包括主体、后处理装置、对象作业部、光源和遮光构件。后处理装置被设置为能够在缩回位置和突出位置之间自由地移位,在所述缩回位置处后处理装置被接纳到主体的体内纸张排出部内,在所述突出位置处后处理装置被拉向一个侧面侧。对象作业部沿后处理装置的拉出方向被设置于后处理装置的上游侧面。光源被设置于后处理装置的上游侧面,并在突出位置中照亮对象作业部。遮光构件被设置于后处理装置的上游侧面且位于光源的前面侧,并且阻挡光源的到达前面侧的直射光。

    成像设备
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102004407B

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201010263991.4

    申请日:2010-08-25

    Inventor: 松本良孝 辻优

    CPC classification number: G03G15/6552

    Abstract: 一种成像设备,包括主体、后处理装置、对象作业部、光源和遮光构件。后处理装置被设置为能够在缩回位置和突出位置之间自由地移位,在所述缩回位置处后处理装置被接纳到主体的体内纸张排出部内,在所述突出位置处后处理装置被拉向一个侧面侧。对象作业部沿后处理装置的拉出方向被设置于后处理装置的上游侧面。光源被设置于后处理装置的上游侧面,并在突出位置中照亮对象作业部。遮光构件被设置于后处理装置的上游侧面且位于光源的前面侧,并且阻挡光源的到达前面侧的直射光。

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