公开(公告)号：CN1145078C

公开(公告)日：2004-04-07

申请号：CN96123157.2

申请日：1996-12-20

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 浦野文良 ,  藤江启利 ,  大野桂二

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

Abstract: 一种在其分子中含有在酸存在下可容易地除去的缩醛基或缩酮基的聚羟基苯乙烯衍生物的聚合物，它有很窄的分子量分布并使含有它的抗蚀材料适合用于形成有极好分辨率、耐热性、掩膜线性度和其它性能如不会引起延迟期间等问题的超细图案。

公开(公告)号：CN1159459A

公开(公告)日：1997-09-17

申请号：CN96123158.0

申请日：1996-12-20

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 浦野文良 ,  藤江启利 ,  大野桂二

IPC: C08L25/18 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 聚合物组合物包括：(i)含有带有官能团A的单体单元作为其结构成分的聚合物(a)，在一种酸存在下加热时成为碱溶的，(ii)含有带有官能团B的单体单元作为其结构成分的聚合物(b)，所述官能团在一种酸存在下加热时成为碱溶的，但不如官能团A易溶；以及除了(i)和(ii)之外或替代(ii)，若需要(iii)一种重均分子量为300-15,000的酚化合物。该组合物与光致酸生成剂一起提供了适用于形成光敏性、分辨率、掩模线性度和其它特性优良的图案的抗蚀材料。