公开(公告)号：CN101344727B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200810039661.X

申请日：2008-06-26

Applicant: 上海微电子装备有限公司 ,  华中科技大学

Inventor： 廖飞红 ,  李志丹 ,  李小平 ,  程吉水 ,  李志科

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种调焦调平探测装置及方法，装置的测量光路在投影物镜光轴的两侧，由照明、投影、成像及探测诸单元组成，特点是对应一个光斑的探测狭缝阵列的多个探测狭缝，其中的一个探测狭缝用于精测，其他的狭缝用于粗测；由多个探测狭缝和多个探测器根据它们的一一对应关系来探测一个光斑的位置，实现对硅片表面的高精度大范围的高度和倾斜度测量；替换该特征元素，从探测狭缝阵列中取出若干探测狭缝布置成队列，依借冗余探测狭缝来实现对硅片表面高精度大范围的高度和倾斜度测量；所述方法处理步骤依次为：对探测器转出信号处理、探测狭缝判断和测量结果输出。本发明具有结构简单测量精度高的优点。

公开(公告)号：CN101344727A

公开(公告)日：2009-01-14

申请号：CN200810039661.X

申请日：2008-06-26

Applicant: 上海微电子装备有限公司 ,  华中科技大学

Inventor： 廖飞红 ,  李志丹 ,  李小平 ,  程吉水 ,  李志科

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种调焦调平探测装置及方法，装置的测量光路在投影物镜光轴的两侧，由照明、投影、成像及探测诸单元组成，特点是对应一个光斑的探测狭缝阵列的多个探测狭缝，其中的一个探测狭缝用于精测，其他的狭缝用于粗测；由多个探测狭缝和多个探测器根据它们的一一对应关系来探测一个光斑的位置，实现对硅片表面的高精度大范围的高度和倾斜度测量；替换该特征元素，从探测狭缝阵列中取出若干探测狭缝布置成队列，依借冗余探测狭缝来实现对硅片表面高精度大范围的高度和倾斜度测量；所述方法处理步骤依次为：对探测器转出信号处理、探测狭缝判断和测量结果输出。本发明具有结构简单测量精度高的优点。