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公开(公告)号：CN103465131A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310418928.7
申请日：2013-09-13
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明公开了属于超精密光学表面加工领域的一种气压连续可调双自由度轮式气囊抛光装置。包括电机、气动旋转接头、固定架、齿轮、轴承、自转驱动轴、公转驱动套筒、自转轴、公转箱体、抛光轮、气囊；工作时，通过数控机床将该装置移动到待加工的位置，气囊与工件接触并下压一定距离，通过改变气压来调节作用在抛光区域上的压力；自转电机通过各级齿轮传递带动抛光轮绕自转轴旋转，公转电机带动公转驱动套筒转动，进而带动公转箱体、抛光轮做公转运动，最终获得了类高斯形的去除函数，实现对光学元件的确定性表面加工。本发明适用于大中型口径光学元件的超精密表面加工。
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